高精度光栅刻划系统的制作分析及实现.docx

中图分类号：O436.1高精度光栅刻划系统的制作分析与实现光学工程全日制……,…………… 学校代码：学 号：上海理工大学硕士学位论文高精度光栅刻划系统的制作分析与实现姓名系别光电信息与计算机工程学院学位类别/领域光学工程研究方向物理刻划光栅的制作与检测指导教师学位论文完成日期 2014年12月THE DEVELOP ANALYSIS AND IMPLEMENTATION OF THE HIGH PRECISION GRATING RULINGSYSTEM　byDing WeitaoA Thesis Submitted to University of Shanghai for Science Technology in Partial Fulfillment of the Requirements forthe Degree of MasterUnder the Supervision ofProfessor …University of Shanghai for Science TechnologyDecember 2014学位论文版权使用授权书本学位论文作者完全了解学校有关保留、使用学位论文的规定，同意学位论文保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子版。允许论文被查阅和借阅。本人授权上海理工大学可以将本学位论文的全部内容或部分内容编入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存和汇编本学位论文。保密年□ 不保密□本学位论文属于学位论文作者签名：指导教师签名：年月日年月日声明本人郑重声明：所呈交的学位论文，是本人在导师的指导下,独立进行研究工作所取得的成果。除文中已注明引用的内容外，本论文不包含任何其他个人或集体已经公开发表或撰写过的作品成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体，均已在文中以明确方式标明。本声明的法律责任由本人承担。学位论文作者签名：年月日摘要中阶梯光栅作为高色散和高分辨率光学器件，已经广泛的应用于大型光谱仪器之中，并极大推动了军事、天文、航天航空等前端领域科技的发展。中阶梯光栅主要靠物理刻划方法获得，因此必须要制作一台高精度的光栅刻划机。刻划系统的制作，难度最大的在于保证它的高精度，影响光栅刻划系统精度的主要因素有刻划机自身分度精度、外界温度和工作台振动等，而这些因素的限制条件又取决于所要制作的光栅本身的精度要求。为制得一块优质光栅，必须对这些因素进行限定。本文首先定量分析了中阶梯光栅的刻划误差对衍射光谱、衍射级次、波前误差、鬼线强度、杂散光强度、衍射效率的影响。在满足光栅的使用条件下，求得上述因素对应的刻划误差(均方根误差)分别为：1265.8 nm、352 nm、30 nm、106 nm、4.3nm、30nm，在上述理论数据的指导下可建立起初始的光栅刻划系统。采用英国Renishaw的高精度的光栅尺和光栅读数头为核心构建了闭环控制的分度系统，其可分辨的最小位移量为1nm，达到了初步的精度要求。对于影响刻划系统分度精度的工作台振动和温度变化两个主要环境因素，我们设计了一套基于迈克尔逊干涉法的振动检测系统，用于检测试验台两点之间的相对低频微弱震动，最小测量振幅可达5nm；利用对温度变化反映灵敏的pt100电阻和低功率的白炽灯搭建了温度控制系统，实验中可测温度变化为0.01℃，实际控制温度变化在±0.05℃内。对制作的刻划机，我们利用双频激光位移检测系统对分度系统的实际工作精度进行检测，在刻划79g/mm光栅时平均每次进给位移误差为100nm，整套系统虽尚未达到最高的精度要求，但已可进行刻划实验。最后，论文客观的总结了课题中所取得的成果及存在的问题并进行了分析，提出了后续研究的方向和内容。关键词：中阶梯光栅分度精度 刻划误差误差分析振动检测 温度控制ABSTRACTAs a kind of high dispersion and high resolution optics, the Echelle gratinghas been widely used in the large spectrometer or optical instruments and it has promoted the development of military, astronomy, aerospace and other front-end technologies greatly.TheEchelle obtained mainly by physical machining, so agrating ruling machine with high