新型荷电杂化(镶嵌)膜(资料)的制备与表征.pdf

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新型荷电杂化(镶嵌)膜(资料)的制备与表征

摘要 摘要 本论文主要介绍了新颖的无机一有机杂化荷电膜包括无机一有机荷正电杂 化膜、含有羧基的杂化两性离子膜、同时含有磺酸基和羧基的杂化两性离子膜、 杂化前驱体的分子结构对两性离子膜·ft4Ib白日匕e_,的影响以及杂化荷电镶嵌膜的制备与 表征等内容。全文共分为七章。 第一章是绪论。首先对离子交换荷电膜作简要介绍,然后重点介绍杂化荷电 镶嵌膜和杂化两性离子膜;最后提出本研究的主要思路和技术方案等。 第二章介绍了由硅钛偶联剂的醇解和胺化过程制各荷正电杂化膜。方法是: 选择含有环氧基团的硅烷偶联剂与钛醇盐在非水条件下进q亍sol—gel反应,然后让 环氧开环即可得到荷正电杂化膜。考察了热处理温度和钛含量对膜性能的影响。 结果表明:对于不同组成的涂膜液,IECs随着热处理温度的升高而降低;钛能够 加速坏氧开环,并能够提高膜的热稳定性幂I]IECs值;但是过高的钛含量将要降低 Si—O—Ti键的稳定性,导致膜开裂。 第三章介绍了含有羧基的杂化两性离子膜的制备。即在非水条件下,由 解和聚合得到杂化两性离子聚合物。由该聚合物再制备~系列含有羧基的杂化两 性离子膜,并用膜电位、含水率和压差渗析试验对膜性能进行了表征。结果表明: Y.BL含量增加,杂化前驱体中离子对数量也增加。其IEP为pH6.68.8.20;其阳离 mol/g。溶液的pH值对含水率的影响较大,说明这些膜的两性特征。这些现象可 以用Tanioka A.等人推导的弱两性膜的理论模型来解释。 第四章首先介绍了由巯基的氧化或苯环的磺化两种方法制备同时含有磺酸 基和羧基的杂化两性离子共聚物的方法。然后利用巯基氧化的方法制备了含有磺 酸基和羧基的杂化两性离子膜,考察了热处理温度等因素对膜性能的影响。结果 I 摘要 0.029.0.14 mmol·g~;同时随着热处理温度的升高,IECs值呈现不同的变化。这 些现象可以用库仑排斥、离子交换基团传质速度的变化来解释。SEM照片显示热 处理温度能影响膜的微结构。 第五章介绍了杂化前驱体的分子结构对两性离子膜性能的影响。在醇溶液中, 通过两种硅烷偶联剂之间的偶联,然后再与BL反应在杂化前驱体上生成离子对, 制备了一系列新颖的杂化两性离子膜。分别考察了杂化前驱体的分子结构对膜的 热稳定性、纯水通量矛[:IIECs等性能的影响。 第六章介绍了由硅钛偶联法制备杂化荷电镶嵌膜。由PAMTMS和钛醇盐的 偶联反应以及两性离子化法制备了一系列新颖的杂化荷电镶嵌膜,并研究了杂化 荷电镶嵌膜在有机溶液中的膜电位。结果表明:四种膜的阴阳离子交换容量分别 量和涂膜次数的增加而增加。涂膜一次时,IEPs值为pH6.7.5,并且随着钛含量 的增加而降低;但是涂膜两次时,IEPs处于pH6—7.O之间,并且它随着钛含量的 增加而增加,显示离子的反向迁移行为。膜的纯水通量随着涂膜次数和钛含量的 增加而降低。SEM照片显示:随着钛含量和涂膜次数的增加,膜变厚和致密,但 过高的钛含量将导致膜开裂。 第七章是全文总结。通过前面一系列实验研究和理论分析,得出了一些对离 子交换荷电膜研究具有十分重要意义的结论以及本论文的主要创新点。 关键词:无机一有机杂化荷电膜,杂化两性离子膜,杂化荷电镶嵌膜,压差渗析, 等电点,丁内酯,磺化,巯基,两性离子化,溶胶~凝胶法 Abstract Abstract Thisdissertationfocusonthe andcharacterizationsofnovel preparation membranes inorganic—organichybridcharged including with zwitterionicmembranes membranes,hy

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