利用NexION2000ICP-MS对半导体级盐酸中的杂质-珀金埃尔默.PDFVIP

应 用 报 告 ICP - Mass Spectrometry 作者： Ken Neubauer PerkinElmer Inc. Shelton, CT 利用NexION 2000 ICP-MS 对 半 导 体 级 盐 酸 中 引言 在半导体设备的生产过程中，许多 的 杂 质 进 行 分 析 流程中都要用到各种酸类试剂。其 中最重要的是盐酸 （HCl），其主要 用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸 不断缩小，其生产中使用的试剂纯