大型X射线光学仪器：单层镜和多层镜的制造与表征.docVIP

大型X射线光学仪器：单层镜和多层镜的制造与表征 第15卷第12期 2007年12月 光学精密工程 OpticsandPrecisionEngineering VoI.15No.12 Dec.2007 ArticlelD1004—924X(2007)121869一O9 大型X射线光学仪器:单层镜和多层镜的制造与表征 MichaelStormer,DietrichHaul31er,WolfgangJager,RiidigerBormann (1.1nstituteofMaterialsResearch,GKSS—ResearchCentreGeesthachtGmbH, Max—Planck—Strasse1,21502Geesthacht,Germany;2.MicroanalysisofMaterials, FacultyofEngineering,UniversityKid,Kaiserstrasse2,24143Kiel,Germany) 摘要:15o～500mm长度的各种x射线光学元件可用于光束导引,光束调整,以及单色化.本文介绍了两种不同的大型 x射线反射镜.第一种为单层反射镜,这种反射镜以2.掠入射角在软x射线区(5O～200eV)起全反射镜作用,可用于自 由电子激光器,如德国汉堡的FIASH.第二种是多层镜,由于它的布喇格反射特性,适于作为反射镜以0.4～1.的入射 角用于硬x射线区(2O～50keY),如层析光束线的同步辐射存储环中.两种反射镜都用最新物理汽相淀积法制备,并用 磁控溅射来实现x射线光学应用所需要的优良光学品质.这一淀积工艺使不同批次的镀膜稳定性良好,有利于实际反 射镜在优质衬底上的最后淀积.单层镜和多层镜在它们的相关能量范围内都有很高的反射率,表面粗糙度也很低,且在 整个光学波长区这些特性表现均匀.文中所叙相关研究都是借助x射线反射计量(XRR)法,透射电子显微镜(TEM), 光学轮廓仪(OP),以及原子力显微镜(AFM)完成的. 关键词:X射线光学;多层膜反射镜;全反射镜;X射线反射测量;磁控溅射;同步辐射;自由电子激光器 中图分类号:0434.19;TH703文献标识码:A LargeX—rayoptics:fabricationandcharacterization ofsingleandmultilayermirrors MichaelStormer,DietrichHaul31er,WolfgangJager.,RiidigerBormann (1.InstituteofMaterialsResearch,GKSS-ResearchCentreGeesthachtGmbH, Maz~Planck—Strasse1,21502Geesthacht,Germany;2.Microanalysisof Materials,Faculty0_,Engineering,UniversityKiel,Kaiserstrasse2,24143Kiel,Germany) Abstract:VariousX—rayopticswithanopticallengthof150～500mmareemployedforbeamguid— ance.beamalignmentandmonochromatization.ThispaperfocusesontwodifferenttypesoflargeX— raymirrors.ThefirstopticalelementiSasingle—layermirrorwhichworksasatotal-reflectionmirror inthesoftX—rayrange(50～200eV)andatagrazingincidenceangleof2..Suchamirrorisusedin free—electronlasers,e.g.FIASHinHamburg,Germany.Thesecondmirrorisamultilayermirror, whichisemployedasareflectorduetoitsBraggreflectionforthehardX—rayrange(20~50keV)and atincidenceanglesof0.4～lo.Suchamirrorcouldbeusedatasynchrotronstoragering,forinstance inatomographvbeamline.Inbothcases,themirrorsarefabricatedbymeansofstate—of—the—artphys— icalvapourdepositiontechniques.usingmagnetronsputter