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PECV培训教材

SOP * * SOP * SOP * 6.工艺流程注意点 1.在进料过程中发现装载不良现象时,不要用戴着手套的手去调整硅片, 以防 钢丝挂住手套,发生事故; 2.当石墨框从出料腔出来时,要戴高温手套去搬运,以防烫伤; 3.设备内部清洗或更换石英管时,要检查硅烷和氨气的出气口是否堵塞; 4.工艺中断需要重新进行时选择,选择前应查看镀膜情况。 5.去除PSG后,等待时间不能超过4小时,否则会因为绒面被氧化而导致电学性能变差 6.工艺停止后重新加载时需确认所有工艺参数,停机超12小时后需用一片来试片。装片时检验硅片表面是否有脏物,若有则返回前道工序清洗。 7.工艺腔不能降温,否则SiNx会因为冷却导致应力释放而脱落,堵塞气孔 8.为防止气流不稳等导致的薄膜均匀性问题,石墨舟的每个位置都需要放硅片,硅片不足时,放置假片 9.每天上班首先应检查石英管的使用寿命,如果快到达,通知设备人员进行更换。更换的过程必须带好防护装备,同时对工艺腔进行碎片等的清理。 * 三.设备部分 1.RATHRAU设备结构 2.常见异常处理 RATHRAU设备结构 进料腔 加热腔 工艺腔 冷却腔 进料腔-加热腔气压 2.01*10-2mbar 温度:400摄氏度 进料腔:红外加热 加热腔、工艺腔:电阻丝加热 机械泵、罗茨泵抽真空:GV600 无水泵是一个装有3 对凸轮爪马达的4 冲程泵,包括一台主泵和一台备用泵。 EH4200是一种大排水量真空泵,这种泵由一个三相电机通过液态流进行驱动,其允许在较高的压力下进行操作。 气压计 气压开关 温度计 电阻丝加热 机械泵 罗茨泵 返回运输马达和sensors Position sensors Driver 红外加热 出料腔 * * 进料腔(1) 加热腔(2) 工艺腔(3) 冷却腔(4) 出料腔(5) 进料腔----有预热的作用,在载板进入腔体后, 先冲入N2,再进行抽真空; 加热腔 在工艺中起着加热的作用; 工艺腔 在等离子及真空条件下,硅烷与氨气在400 ?C时反应生成Si3N4,覆盖在硅片表面上; 进料腔与出料腔 防止特色气体溢出, 增加安全性. 使电池片体逐渐降低温度 RATHRAU设备结构 冷却水*6 石英管*6 温度设置 速度设置 气压设置 设置功率 实际功率 反射比率 角阀 气体流量 冷却水*4 * RATHRAU设备结构 气路图 气路图 通N2 通NH3 进料腔:通N2?开#1门?抽真空?通NH3?开#2门?抽真空?通N2(循环) 出料腔:通NH3?开#4门?抽真空?通N2 ?开#5门?抽真空?通NH3 (循环) 气路图 MFC气体流量计 气路图 大流量气体吹扫管道时所走捷径,MFC不能走大流量气体 NH3 SiH4 * 晶片装载区:桨、LIFT、抽风系统、SLS系统; 炉体:石英管、加热系统、冷却系统; 特气柜:MFC 气动阀; 真空系统; 控制系统; RATHRAU设备结构 表示硅片石墨舟进出工艺腔的过程中压力及温度的变化情况。 石墨舟进出工艺腔压力温度曲线 温度压力曲线 * 硅片实际温度曲线 进料腔 加热腔 工艺腔 冷却腔 Wafer 在腔体内实际温度 (设置温度400,425,425) 加热室温度范围为380-480℃,实际值与设定值相差较大 反应室温度范围为250-350 ℃,不同机台/不同位置波动较大 测试设备 Datapaq * 微波组件的原理图 微波组件主要包括:主供电,微波发射器,磁控头,铜导线,石英管,通气孔及加热器,沉积敷层护槽 。微波传导是影响薄膜淀积速率与均匀性的重要因素。 * 微波能量是由微波发生器产生的,微波发生器包括微波管和微波管电源两个部分。其中微波管电源(简称电源或微波源)的作用是把常用的交流电能变成直流电能,为微波管的工作创造条件。微波管是微波发生器的核心,它将直流电能转变成微波能。由于磁控管的结构简单、效率高、工作电压低、电源简单和适应负载变化的能力强,因而特别适用于微波加热和微波能的其他应用。磁控管由于工作状态的不同可分为脉冲磁控管和连续波磁控管两类。由于连续磁控管产生的功率超过石英管接受,所以我们用脉冲磁控管。保证了即使是在相当高的功率峰值平均微波功率仍可被保持在石英管的发热极限之下。也可通过平均微波功率保持在石英管的受热极限以下。 磁控管是一种用来产生微波能的电真空器件。实质上是一个置于恒定磁场中的二极管。管内电子在相互垂直的恒定磁场和恒定电场的控制下,与高频电磁场发生相互作用,把从恒定电场中获得能量转变成微波能量,从而达到产生微波能的目的。 内置同轴的石英管与微波发射器相接后可在石英管上进行表面波放电,从而

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