国家创新型--纳米NiO浓度梯度法合成及结构表征总结-石河子大学.PPTVIP

氧化镍（NiO）是一种典型的p 型半导体，具有良好的热敏和气敏等特性，是一种很有前途的功能性材料。 基于这一系列优异特性，纳米氧化镍常用作催化剂、传感器和电池电极材料。在现有合成纳米氧化物的基础上，我们通过改进沉淀法，设计出一种新的纳米合成工艺--浓度梯度法（Paralleled Dropping Concentration Gradient method，PDCG）。 自行设计的实验装置 实验设计路线 1.纳米NiO的单因素条件探索 纳米NiO的最优工艺路线 通过PDCG技术，可使镍盐和沉淀剂均在极低浓度（摩尔浓度可达到10-6mol/L）下合成纳米材料因此可以结合原料的经济效益和生成产物粒径，选定Ni(NO3)2·6H2O溶液的浓C=0.05mol/L，C=0.13mol/L，反应温度为25℃，反应时间为2.0h,煅烧温度为300℃-350℃，煅烧时间为2.0h ，以0.04mol/L吐温-80为表面活性剂作为实验最佳条件。 纳米NiO的结构表征 纳米NiO制备小结 通过SEM、XRD、TG、UV-Vis和FT-IR技术对纳米晶NiO的微观结构进行研究，研究制备条件对纳米晶NiO的结构的影响。 （1）采用并行滴加浓度梯度技术以0.05mol/L硝酸镍为镍盐，0.13mol/L氨水为沉淀剂, 0.04