第十三章习题案final.docVIP

1、制备薄膜样品的基本要求是什么？具体工艺过程如何？双喷减薄与离子减薄各适用于制备什么样品？ 答：基本要求： 薄膜样品的组织结构必须和大块样品相同。 样品相对于电子束而言，必须有足够多的“透明度”。 薄膜样品应有一定的强度和刚度，在制备、夹持和操作的过程中，在一定的机械力的作用下不会引起变形或损坏。 在样品制备过程中不允许表面产生氧化和腐蚀。 工艺过程： 从实物或大块的试样上切割厚度为0.3~0.5nm厚的薄片。 样品薄片的预减薄（机械法或化学法） 最终减薄，达到电镜所需的透明度，包括双喷电解减薄和离子减薄，目前效率最高和操作最简单的方法是双喷电解减薄。 双喷减薄适用制备金属与部分合金样品。 不易于腐蚀的裂纹端试样 非粉末冶金试样 组织中各相电解性能相差不大的材料 不易于脆断、不能清洗的试样 离子减薄适用制备 不导电的陶瓷样品 要求质量高的金属样品 不宜双喷电解的金属与合金样品 2、什么是衍射衬度？它与质厚衬度有什么区别？ 答：由于样品中不同位相的衍射条件不同而造成的衬度差别叫衍射衬度。 它与质厚衬度的区别： 质厚衬度是建立在原子对电子散射的理论基础上的，而衍射衬度则是建立在晶体对电子衍射基础之上。 质厚衬度利用样品薄膜厚度的差别和平均原子序数的差别来获得衬度，而衍射衬度则是利用不同晶粒的晶体学位相不同来获得衬度。 质厚衬度应用于非晶体复型样品成像中，而衍射衬度则应用于晶体薄膜样品