PLD生长氧化物薄膜及光学应用.docVIP

PLD生长氧化物薄膜及其光学应用 摘要：PLD是一种快速发展的技术，可用于生成高质量的薄膜。本文主要介绍PLD生长氧化物薄膜的研究现状和其生长的氧化物薄膜在光学方面的应用，以及PLD生长薄膜的基本过程、实时监控系统和用计算机仿真优化实验参数的方法。此外，还讨论了PLD生长氧化物薄膜的所面临和急需解决的问题。 研究现状 纳米薄膜由于其特殊的量子尺寸效应、表面效应和宏观量子隧道效应等成为现代凝聚态物理和材料科学研究中的一个重要研究领域。近年来, 人们对纳米薄膜的制备、结构、性能和应用前景进行了众多的研究。长期以来,人们发展了真空蒸发沉积、磁控溅射沉积、粒子束溅射沉积、金属有机物化学气相沉积(MOCVD)和分子束外延(MBE)等制膜技术和方法。上述方法各具特色和使用范围,也有各自的局限性。脉冲激光沉积(PLD)是伴随着激光技术的问世而发展起来的制备薄膜的新型技术。1987年，美国贝尔实验室的D.Dijkkamp等首次采用PLD技术，利用KrF准分子激光器，成功制备出高温超导薄膜YBa2Cu3O7-d。CeO2，GeO2，HfO2，ITO，MgO，SiO2，SnO2，Y203，ZnO，ZrO2等。大多数情况下，折射率可用于表征薄膜的结构和组成特性。大量结果显示致密膜的折射率与室温下体材料的折射率相近。第二类复合氧化物常为单晶材料表现出有趣的非线性光学（NLO）性能。虽然系统研究了几种材料的