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X射线技术和应用
段落: HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-1.html 第一部分:X射线的产生和性质
HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X射线衍射(XRD)
HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X扩展的X射线吸收边(EXAFS)
HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X射线形貌(白光形貌和双晶形貌)
HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X射线成像(XRI)
HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X射线小角散(XRS)
HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X射线光刻(XRL)
HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X射线荧光(XRF)- 元素分析 HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X射线实验系列化研究 HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html 结束语:X射线实验系列化研究
]
X射线衍射(XRD)
???????? HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html Debye 法
同步辐射(SR)XRD装置 (BSRF)
纳米微晶Fe的X射线衍射曲线与理论计算结果的比较
???????? HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html Laue 法
蛋白质的Laue衍射图
?
扩展的X射线吸收边(EXAFS)
XANES:30 – 40eV
光电子多重散射
EXAFS:大于40eV
光电子/散射波干涉
?
X射线形貌(白光形貌和双晶形貌)
X射线形貌图
?
X射线成像(XRI)
层析术(吸收)
显微术(吸收)
全息术(衍射)
减法造影(吸收)
其它
???????? 扫描X射线显微镜装置
透射扫描软X射线原理图
???????? X射线显微术实验站
???????? 显微图
???????? 造影装置
???????? 兔耳造影 (注入BaFBr)
?
X射线小角散(XRS)
?
X射线光刻(XRL)
SR X射线光刻装置(XRL)
???????? HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X-ray 掩膜(mask)
掩膜
???????? HYPERLINK /jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part1/4-2-2.html X-ray 抗蚀剂(resist)
分类:
光抗蚀剂 X射线抗蚀剂 电子束抗蚀剂
有机抗蚀剂 无机抗蚀剂
单组分 双组分 三组分
正性抗蚀剂 负性抗蚀剂
?????? 单组分
?????? 双组分
基本树脂材料+含卤族元素的光敏感剂
?????? 三组分
Novalok 树脂基体
提供良好的抗干刻蚀特性
对辐射灵敏的组分
辐照后吸收光子产生强Bronsted酸
阻溶剂
对光子不敏感但对酸很敏感
?
?
?????? 正性抗蚀剂
正性抗蚀剂的衬度曲线
sp = D0 sn = D0.7
[资料]
PMMA (poly(methyl methacrylate)) - 聚甲基丙烯酸甲酯
positive tone, polymer chain scission type
Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography
Basic Parameters:
Molecular weight
50 - 950 kg/mol
Solids content
4% - 10%
Glass-transition temperature
85 - 106%
refractive index
1.49 (for 950k at 6328?)
Solvent
Chlorobenzene,chorobenzene/xylene
MIBK (methyl-iso-butyl-ketone)
MEK (methyl-ethyl-kotone)
specific gravity
0.79 - 0.85 (MIBK
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