义守大学电子工程学系专题计划书奈米氧化铜管提升ZnO薄膜光电.PDF

義守大學 電子工程學系 專題計劃書 奈米氧化銅管提升 ZnO 薄膜光電特性之研 究 Enhancement of optoelectronic properties by inserting CuO nano-tubes in ZnO layers 專題 學生:劉怡萱 王湘綺 指導教授 :林彥勝 博士 中 華 民 國 104 年 6 月 摘要 本研究主要於 ZnO 種子層表面 經蝕刻處理後形成微粗糙化結 構，再藉由不同製程參數設計來改善奈米氧化 銅管 分佈，以提升 ZnO 薄膜光電特性。研究中，首先藉由 射頻磁控濺鍍機 (RF magnetron sputtering)濺鍍 ZnO種子層在玻璃基板上，之後再 以濕式 蝕刻使 ZnO種子層表面形成微 粗糙化結構，並再調變不同 製程參數 將 CuO nano-tubes 沉積於此粗化表面。後續再藉由場發式掃描電子 顯微鏡 (FESEM)對薄膜CuO nano-tubes結構緻密性及表面進行觀察量 測， 並以霍爾效應量測儀、 UV-VIS 光譜儀 、X 光繞射儀等 ，對薄膜 進行光學性質 、電性及結構等做 分析 。 III 目錄 摘要 ………………………………………………………………………………..III 目錄 ………………………………………………………………………………..IV 圖目錄 V 壹、緒論 1 1-1研究背景 1 1-2研究動機 2 1-3研究目的 3 貳、文獻探討 5 2-1 透明導電薄膜之基礎原理 5 2-2 TCO 薄膜之導電機制 10 2-3 AZO 薄膜之導電特性 12 參、研究方法與設備 14 3-1研究流程圖 14 3-2 儀器介紹 15 3-2-1射頻磁控濺鍍機 15 3-2-2 場發射掃描電子顯微鏡 17 3-2-3 霍爾量測儀 19 3-2-4 X 光繞射儀 20 3-2-5 紫外光可見光光譜分析儀- 21 肆、研究預期結果及進度 22 參考文獻 23 IV 圖目錄 圖 1－1 置入奈米銅之流程示意圖，依序為 (a)玻璃基板/(b)濺鍍 ZnO 種子層 /(c) 以KOH進行蝕刻/(d)濺鍍 Cu成長CuO nano-tubes 4 圖 2 －1 金屬特性示意圖 6 圖 2 －2 氧化物特性示意圖 6 圖 2 －3 透明導電氧化物特性圖 7 圖 2－4 ITO鍍膜特性－面電阻率 7 圖 2－5 ITO鍍膜特性－透光率 8 圖 2－6 ITO鍍膜成分變化圖 9 圖 2－7 TCO導電示意圖 11 圖 2 －8 ZnO結構 12 圖 3－1 研究流程圖 14 圖 3－2 射頻磁控濺鍍機 16 圖 3－3 SEM構造圖 18 圖 3－4 霍爾效應原理示意圖 19 圖 3－5 布拉格繞射原理 20 圖 3－6 UV-VIS 示意圖21 V