PECVD对膜层影响分析.pdfVIP

國 立 中 央 大 學 物 理 研 究 所 碩 士 論 文 非晶矽繞射光學元件的製作與分析 Fabrication and Analysis of Amorphous Silicon Diffractive Optical Elements 研究生 ：陳建勳 指導教授 ：紀國鐘 博士 中 華民 國 九 十 四 年 七 月 國立中央大學圖書館 碩博士論文電子檔授權書 (93 年 5 月最新修正版) 本授權書所授權之論文全文電子檔，為本人於國立中央大學，撰寫之碩/博 士學位論文。(以下請擇一勾選) ( ˇ)同意 (立即開放) ( )同意 (一年後開放)，原因是： ( )同意 (二年後開放)，原因是： ( )不同意 ，原因是： 以非專屬、無償授權國立中央大學圖書館與國家圖書館，基於推動讀者間「資 源共享、互惠合作」之理念，於回饋社會與學術研究之目的，得不限地域、 時間與次數，以紙本、微縮、光碟及其它各種方法將上列論文收錄、重製、 公開陳列、與發行，或再授權他人以各種方法重製與利用，並得將數位化之 上列論文與論文電子檔以上載網路方式，提供讀者基於個人非營利性質之線 上檢索、閱覽、下載或列印。 研究生簽名: 陳建勳 論文名稱: 非晶矽繞射光學元件的製作與分析 指導教授姓名： 紀國鐘 系所 ： 物理 所 博士 碩士班 學號： 日期：民國 94 年 7 月 20 日 備註： 1. 本授權書請填寫並親筆簽名後，裝訂於各紙本論文封面後之次頁（全文電子檔內之授權書簽名， 可用電腦打字代替）。 2. 請加印一份單張之授權書，填寫並親筆簽名後，於辦理離校時交圖書館（以統一代轉寄給國家圖 書館）。 3. 讀者基於個人非營利性質之線上檢索、閱覽、下載或列印上列論文，應依著作權法相關規定辦理。 I 非晶矽繞射光學元件的製作與分析 研究生：陳建勳 指導教授： 紀國鐘 國立中央大學 物理研究所 摘 要 　 本實驗主要目的為以電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition : PECVD)在石英基板上成長平坦 的非晶矽薄膜，並進一步以平坦的非晶矽薄膜製作高繞射效率二階相 位 Fresnel lens 。 在實驗中，改變電漿輔助化學氣相沉積系統的 SiH