《毕业设计论文》高级氧化工艺去除小分子羧酸的对比研究.docVIP

**大学本科毕业论文 高级氧化工艺去除小分子羧酸的对比研究 I 本科生毕业论文（设计） 题 目 高级氧化工艺去除小分子羧酸的对比研究 学 院 专 业 　 学生姓名 学 号 年级 级 指导教师 　 摘要 摘要 本课题采用深度处理法，即高级氧化技术（工艺）去除水中小分子羧酸，并运用液相色谱法来进行小分子羧酸的测定。实验中选取的三种不同的高级氧化技术分别为：臭氧氧化工艺，芬顿氧化工艺和光催化氧化工艺，而去除的目标物为三种常见的小分子羧酸，分别为：甲酸，草酸和水杨酸。实验通过比较各个工艺的去除效果来判断优劣，并选取最佳反应条件。实验结果表明：臭氧氧化工艺对小分子羧酸的去除率极低，不适合作为去除工艺；而对于500mL含小分子羧酸的溶液，在pH=3，H2O2的加入量为0.36mol，Fe2+的加入量为1mmol，反应时间为20min的条件下，通过Fenton氧化工艺进行实验能使小分子羧酸的去除率达到96%以上，去除效果十分突出；光催化氧化工艺选择的是UV/H2O2联用技术，在500mL小分子羧酸溶液中，反应初始pH=4，H2O2的加入量为0.48mol，反应时间为40min时，去除率可达60%以上，去除效果十分明显，但与Fenton氧化工艺比较还是有所不足。高级氧化工艺中氧化分解产生的·OH是去除小分子羧酸的主要物质，产生·OH能力的大小是判断一个高级氧化工艺去除效果极为重要的因素。光催化氧化工艺在波长为256nm的紫外光照下分解H2O2产生的·OH不够多，因而对小分子羧酸的去除效果未达到最高；而对于Fenton氧化工艺，通过控制 Fe2+和H2O2的投加量，可以产生大量的·OH而使小分子羧酸的去除率达到很高的程度。所以，可以得出结论，在影响小分子羧酸去除率的因素中占重要地位的就是工艺中产生·OH的数量，而在本次实验条件下，Fenton氧化工艺是产生·OH最多的工艺，即为此条件下去除小分子羧酸的最佳工艺。 关键词：高级氧化工艺；小分子羧酸；液相色谱 II Abstract Abstract The subject takes the Advanced Treatment method，or Advanced Oxidation Technology (Process) to removal of the small molecule carboxylic acids. The liquid chromatograpHy is used to determine the small molecule carboxylic acids. The selecting of the three advanced oxidation process are as follows: ozone oxidation，Fenton oxidation process and pHotocatalytic oxidation process. The targets for removal are formic acid，oxalic acid and salicylic acid. By comparing with the various experimental removal processes to determine the merits and select optimal reaction conditions. The result of the experiments proved that the ozone oxidation process is not suitable as a process of removing for the removal of the small molecular carboxylic acid for its removal rate is very low. However，for the reactor containing 500mL small molecule carboxylic acid，the conditions of the experiments are as follows:under the condition of pH=3，H2O2 is added in an amount of 0.36mol，Fe2+ is adde