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光电子技术(论文)
硅光电池——我们日常生活中的太阳能电池
光电池也称为光伏电池。它既可以作为电源,又可以作为光电检测器件。作为电源使用的光电池,主要是直接把太阳的辐射能转换为电能,称为太阳能电池。
常见的光电池有硅光电池、硒光电池、硫化镉光电池、砷化镓光电池,还有硫化铊电池等。其中硅光电池、因其价格便宜、光电转换效率高、光谱响应宽(很适合红外探测)、寿命长、稳定性好、频率特性好、能奈高能辐射、、等优秀的特点,备受人们关注。所以,在此本人着重介绍硅光电池。
硅光电池的分类:
单晶体硅光电池
单晶体硅光电池用P型(或n型)硅衬底,通过磷(或硼)扩散形成Pn结而制作成的,生产技术成熟,是光伏市场上的主导产品。单晶硅光电池面积有限,目前比较大的为Φ10至20cm的圆片,年产能力46MW/a。目前主要课题是继续扩大产业规模,开发带状硅光电池技术,提高材料利用率。国际公认最高效率在AM1.5条件下为24%,空间用高质量的效率在AM0条件约为13.5-18%,地面用大量生产的在AM1条件下多在11-18%之间。
2)多晶体硅光电池
p-Si(多晶硅,包括微晶)光电池没有 HYPERLINK /view/.htm \t _blank 光致衰退效应,材料质量有所下降时也不会导致光电池受影响,是国际上正掀起的前沿性研究热点。在单晶硅衬底上用液相外延制备的p-Si光电池转 换效率为15.3%,经减薄衬底,加强陷光等加工,可提高到23.7%,用CVD法制备的转换效率约为 12.6-17.3%。采用廉价衬底的p-Si薄膜生长方法有PECVD和热丝法,或对a-Si:H材料膜进行后退火,达到低温固相晶化,可分别制出效率9.8%和9.2%的无退化电池。微晶硅薄膜生长与a-Si工艺相容,光电性能和稳定性很高,研究受到很大重视,但效率仅为7.7%。大面积低温p-Si膜与-Si组成叠层电池结构,是提高a-S光电池稳定性和转换效率的重要途径,可更充分利用太阳光谱,理论计算表明其效率可在28%以上,将使硅基薄膜光电池性能产生突破性进展。
非晶体硅光电池
a-Si(非晶硅)光电池一般采用高频辉光放电方法使硅烷气体分解沉积而成的。由于分解沉积温度低,可在玻璃、不锈钢板、陶瓷板、柔性塑料片上沉积约1μm厚的薄膜,易于大面积化 (0.5m×1.0m),成本较低,多采用p in结构。为提高效率和改善稳定性,有时还制成三层p in 等多层叠层式结构,或是插入一些过渡层。其商品化产量连续增长,年产能力45MW/a,10MW生产线已投入生产,全球市场用量每月在1千万片左右,居薄膜电池首位。发展集成型a-Si光电池组 件,激光切割的使用有效面积达90%以上,小面积转换效率提高到14.6%,大面积大量生产的为8-10%,叠层结构的最高效率为21%。研发动向是改善薄膜特性,精确设计光电池结构和控制各层厚度,改善各层之间界面状态,以求得高效率和高稳定性。
二、硅光电池的工作原理(简介)
即使是是不同材料制作的硅光电池,它的发电原理也是基本相同的,其能量转换的基础是PN结的光生伏特效应。这里便不得不提及光生伏特效应。
当光照射到PN结上时,产生电子一空穴对,在半导体内部结附近生成的载流子没有被复合而到达空间电荷区, 受内建电场的吸引,电子流入n区,空穴流入p区,结果使n区储存了过剩的电子,p区有过剩的空穴。它们在PN结附近形成与势垒方向相反的光生电场。光生电 场除了部分抵消势垒电场的作用外,还使p区带正电,N区带负电,在N区和P区之间的薄层就产生电动势,这就是光生伏特效应。而硅光电池的PN结面积要比二极管的PN结大得多,所以受到光照时产生的电动势和电流也大得多。
硅光电大多是用单晶硅制成,在一块N型硅片上用扩散的方法掺入一些P型杂质而形成一个大面积的P-N结,在P型层上贴一栅形电极,N型层上镀背电极作为负极。电池表面有一层增透膜,以减少光的反射。由于多数载流子的扩散,在N型与P型层间形成阻挡层,有一由N型层指向P型层的电场阻止多数载流子的扩散,但是这个电场却能帮助少数载流子通过。当有光照射时,半导体内产生正负电子对,这样P型层中的电子扩散到PN结附近被电场拉向N型层,N型层中的空穴扩散到PN结附近被阻挡层拉向P区,因此正负电极间产生电流;如停止光照,则少数载流子没有来源,电流就会停止。
硅光电池的应用
硅光电池是一种半导体光电器件,它能将光能直接转换成电能,所以可把它用做能量转换器,将太阳光的能量转换成电能;硅光电池还能将变化的光信号转换成相应变化的电信号,所以它又是一个重要的光电信号转换器。因此,在工农业生产和技术革新中有着十分广泛的应用。
1.作为能源使用
在这方面的应用又可分为两类,即空间应用和地面应用。空间应用主要作为空间探测用的电源,用于人造卫星、宇宙飞船中
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