分析薄膜厚度和成分卢瑟福背散射技术.PDFVIP

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分析薄膜厚度与成分的卢瑟福背散射技术 刘超卓 (中国石油大学(华东)物理科学与技术学院,东营 ) 257061 对卢瑟福背散射分析技术的基本原理、试验设备、样品要求及数据处理方法进行了介 摘 要:   绍,并举例分析了硅衬底上钛膜厚度的测定,以及钼衬底上钛钼合金膜的实际组分以及氦离子注入 杂质的分布范围和实际剂量测定。讨论了卢瑟福背散射技术的发展和应用,介绍了弹性反冲、高能 非卢瑟福散射和沟道技术三种分析方法。 卢瑟福背散射;金属薄膜;厚度;合金成分 关键词: 中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( ) O484.5 A 10014012201007043605         犚狌狋犺犲狉犳狅狉犱犅犪犮犽狊犮犪狋狋犲狉犻狀 犜犲犮犺狀犻狌犲犳狅狉犃狀犪犾狊犻狀 狋犺犲犜犺犻犮犽狀犲狊狊 犵 狇 狔 犵 犪狀犱犆狅犿 狅狊犻狋犻狅狀狅犳犜犺犻狀犉犻犾犿狊 狆 犔犐犝犆犺犪狅狕犺狌狅 ( , ( ), , ) SchoolofPhsicsScienceandTechnolo UniversitofPetroleumofChinaEastChina Don in 257061China y gy y gyg : ( ) 犃犫狊狋狉犪犮狋 Theessential rincileofRutherfordbackscatterin RBS analsisandtheexerimental p p g y p , , a aratussam lesreuestsanddatarocessin wereresented.Forillustrationwitha licationsofRBS several pp p q p g p pp exerimentswerecarriedout.Thethicknessoftitaniumfilmonsiliconsubstratewasobtained.Thecomositionof p p titaniummolbdenumallo filmonmolbdenumsubstratewasdetermined.Andtheinformationofim lantedhelium y y y p , ionsastheim urit suchasthedistributionraneandactualdoseintheallo filmwasalsoachieved.Asthe p y

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