氧化试验提案.PPTVIP

氧化实验提案 胡建生、李建刚 2005-11-22 已完成氧化实验 O-ICRF实验 10~40kW 纯O2，1:1 He:O2, 4:1 He:O2 1.2---9.5X10-2 Pa； O-GDC实验: 纯O2，1:1 He:O2, 4:1 He:O2 0.5---1.5Pa ； O-baking实验 动态1.2X10-2 Pa ； 静态：0.7, 1.1, 9.3, 32Pa。 主要结论 O-GDC比O-ICRF效果好； 气压越高，清除效果越好； ICR功率越高、清除效果越好； 比较而言，O-Baking效果不明显； He在氧化过程中，有利于降低氧在器壁的滞留； He-ICRF和He-GDC对氧的清除都有效果，其对氧的清除率受到器壁中氧的滞留量的影响； 氧化后，等离子体可以在几十次破例放电后恢复，其恢复进程受到器壁中氧的滞留量的影响。 问题 目前实验获得的再沉积层清除率同ITER所需要的仍然有差距，需要提高实验功率和气压； O-ICRF对缝隙中再沉积层是否有清除效果？ O-ICRF对金属（不锈刚）有哪些影响？ D2-ICRF对氧的清洗效果？ 如何快速完全恢复等离子体？ 如何判断D基本上被清除干净? 等离子体恢复 特点： Ha 下降很多----复合氧化实验的基本目的； C、O及Zeff 上升较大； H/（H+D）上升，是缺点吗？ 已经获得等离子体： 电子温度同氧化前