原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
Manufacture and It High Frequency Magnetic Property of CoZrNb Magnetic
Film for GHZ Si-Integrated Inductor
中图分类号：TM55 文献标识码：B 文章编号：1606-7517(2014)02-3-146
πM H
ρρ
f
Q L
溅射法，并设计了一种大型的矩形靶(635mm×127mm×3mm)，
以保证在直径 100mm 的基片上沉积出厚度均匀的磁膜。溅
射过程中的基压和 Ar 溅射气压分别取 1×10-7mbar 和
5×10-3mbar。为了兼顾后续的加工工艺需要，采用了直径
L Q
为100mm 的硅晶片作基片。为此，设计了一种特殊的该基
片的支承工具，其特点是具有监控移动能力。基片无需经
过水冷。加工中的动态操作包括：用上术支承工具在靶子
（面朝上）上面连续移动基片（面朝下），这类技术不采用
永磁体（或线圈），以此保证磁膜具有单轴各向异性。这是
f
和传统的静态溅射沉积技术的区别之所在。图1示出了磁
f πM
H
f
文档评论（0）