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- 2018-09-22 发布于上海
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基础1mos结构,cv特性
11.1 双端MOS结构
11.2 电容-电压特性
11.3 MOSFET基本工作原理
11.4 频率限制特性
11.5 CMOS技术
11.6 小结;11.1 双端MOS结构;11.1 MOS电容 MOS电容结构;实际的铝线-氧化层-半导体(M:约10000A O:250A S:约0.5~1mm);11.1 MOS电容 表面能带图:p型衬底(1);11.1 MOS电容 表面能带图:p型衬底(2);11.1 MOS电容 表面能带图:n型衬底(1);11.1 MOS电容 表面能带图:n型衬底(2);小节内容;11.1 MOS电容 空间电荷区厚度:表面耗尽情形;11.1 MOS电容 空间电荷区厚度:表面反型情形;11.1 MOS电容 空间电荷区厚度:n型衬底情形;11.1 MOS电容 空间电荷区厚度:与掺杂浓度的关系;小节内容;11.1 MOS电容 功函数差:MOS接触前的能带图;11.1 MOS电容 功函数差:MOS结构的能带图;11.1 MOS电容 功函数差:计算公式;11.1 MOS电容 功函数差:n+掺杂多晶硅栅(P-Si);11.1 MOS电容
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