软X射线共振反射方法表征ScSi多层膜界面化合物成分计算研究.docVIP

软X射线共振反射方法表征ScSi多层膜界面化合物成分计算研究 　　摘要： 　　Sc/Si周期多层膜是极紫外波段的重要材料，但膜层界面处材料原子间的扩散与化合反应严重影响了多层膜反射率。为了无损表征多层膜界面化合物的成分，利用软X射线共振反射的方法，研究了Sc/Si多层膜界面化合物成分。在Si的L吸收边附近，计算了不同周期厚度以及不同界面硅化物成分的Sc/Si多层膜的共振反射率。结果表明，界面硅化物成分不同的膜系在Si的L边处的反射率有明显差异，并且反射率随着膜层中Si化合反应的消耗而降低，证实了软X射?共振反射方法在亚纳米尺度下对化合物的成分进行无损分析的可行性，为后续的实验研究提供参考。 　　关键词： 　　软X射线共振反射； Sc/Si周期多层膜； 界面成分； 原子散射因子 　　中图分类号： O 434文献标志码： Adoi： 10.3969/j.issn2017.04.015 　　Abstract： 　　Periodic Sc/Si multilayers show high reflectivity in the 3550 nm extreme ultraviolet（EUV） wavelength range.The diffusion and chemical interaction between scandium and silic