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穿透式電子顯微鏡TEM 班級:光電二乙 組員: 劉昌明499L0001 施峻富499L0096 余家興499L0107 指導老師:葉義生 日期:2011/12/01 /Default.aspx?TabId=124 目錄 什麼是TEM TEM歷史簡介 TEM工作原理 TEM結構系統介紹 TEM分析優點及缺點 總結 什麼是TEM? 可分析材料內部的形態、晶體原子結構… T E M ransmission lectron icroscopy 穿透式電子顯微鏡 由於TEM具備高解像能力，比一般影像觀察及分析工具優越許多，而廣泛地用於材料分析。包含半導體、金屬、陶瓷、…等材料之微結構分析、微區成分分析、製程分析、故障分析等。 /a1_43_34_01300000287245122855343048063_jpg.html .tw/33-6.htm /Default.aspx?tabid=417 表一為比較常用顯微鏡的解析度與放大倍率。 表一:常用顯微鏡的比較 TEM歷史簡介(1/2) 在1924年 Louis de Broglie提出電子具有波動的特性(1929年諾貝爾物理獎)，與光學顯微鏡的原理，利用光的波長來決定影像的解析度。 /media/224631/enlarge Louis de Broglie TEM歷史簡介(2/2) Broglie的波動說，無疑地提供了電子顯微鏡的理論基礎 電磁透鏡 電子束 1926年， Busch發現電子經過電磁場會發生偏折，這與光線經過透鏡發生偏折類似。 可由圖(1) 暸解 ，穿透式電子顯微鏡裡的穿透，便是高能電子束能量遠大於物體本身的位障。 TEM工作原理 TEM是藉由穿透電子束打至試片，再經放大成像，因此，TEM試片其所要觀察的區域薄度，必需達到電子束能穿透的等級。 穿透試片的薄度，必須在2?(0.2nm)以下。 而依實際操作時可放大的倍率範圍來看，TEM也具有相當大的彈性,應用到小尺度奈米材料的研究、分析。 加速電壓愈高，波長愈短，解析度也愈佳。 穿透式電子顯微鏡 結構系統介紹 TEM結構系統介紹(1/5) 圖 (a)為穿透式電子顯微鏡結構示意圖。 透射電子顯微鏡主要由四部分組成，分別是電子源、電磁透鏡系統、樣本架，和成像系統。 圖(a)透射電子顯微鏡結構示意圖。 電子源(2/5) 電子源由陰極和陽極組成。陰極是鎢絲線(一般鎢絲承受不了高能量電子束而採用六硼化鑭 )，被加熱時便會發出電子。一個帶負電壓的蓋子把電子稍為聚焦，成為電子束 (圖 2)。 電子束被帶正電壓的陽極加速，射向樣本。電子束邊緣的電子可能落在陽極之上，而在電子束中央的電子則能通過陽極中央的小孔。 圖 2 透射電子顯微鏡的電子源。 電磁透鏡系統(3/5) 經過了電子源以後，電子束便被電磁透鏡系統及金屬孔徑(銅環)精確地聚焦。系統只容許能量在某個狹窄範圍的電子通過，使電子束內的電子具有特定的能量。 磁透鏡(會聚透鏡)：圓形的電磁鐵，可以精確地產生圓形的磁場，用於聚焦電子。 金屬孔徑(銅環)：一個很薄的碟狀物，中央有一個細小的圓孔 (圓孔的大小約為 2-100 微米)，用於控制電子束的大小，及過濾出能量不適當的電子。 樣本架(4/5) 樣本架是一個裝有機械臂的平台，用以乘載樣本和控制它的位置。 成像系統(5/5) 電磁透鏡系統由兩組電磁透鏡組成。當電子穿透樣本後，其中一組透鏡會把電子重新聚焦 另外一組透鏡則用於放大影像，及把影像投影至屏幕。 屏幕是一個螢光屏，受電子撞擊時便會發出螢光。成像過程與一般攝影過程相似。 TEM分析具有以下的優點(1/3) (a)在形象觀察方面, 對材料有敏銳的分析力： (1)晶粒方向。 (2)同質異型結構(Ex:石墨與鑽石)。 (3)異質異型結構。 (4)同質同型結構。 (b)原子結構的觀察–晶格影像 (c)搭配試片基座的傾斜功能，可以進行結構性缺陷的特性分析: (1)離子佈值後的殘餘缺陷。 (2)製程的損傷。 (3)結構性加強的缺陷增長。 (d)藉著電子繞射圖樣分析，在試片觀察時擁有方向感可以確認： (1)晶體結構 (FCC, BCC, HCP, …)。 (2)化學組成 TEM分析具有以下的優點(2/3) (e)在有限厚度內的多層次結構具有透視能力，能得到重疊影像–商用產品分析的逆向工程。 (f)配備冷卻/加熱/可變電性的試片基座，即可在顯微鏡內同步觀察材料結構的變化 TEM分析具有以下的優點(3/3) (a)試片的大小必須在3mm以下。 (b)基於電子束有限的穿透力，通常理想的觀察厚度在5