平面圆形磁控溅射靶枪的磁场分析.docVIP

平面圆形磁控溅射靶枪的磁场分析 屈宝鹏等:平面圆形磁控溅射靶枪的磁场分析 平面圆形磁控溅射靶枪的磁场分析 屈宝鹏,张喜凤 (陕西国防工业职业技术学院陕西西安710300) 摘要:磁控溅射靶枪中磁通量密度的横向分布情况对靶材的利用率,沉积薄膜的质量及磁控溅射过程的稳定性等都 有重大的影响.利用有限元理论对靶表面磁通量密度的横向分量进行了模拟分析.同时,也使用高斯计对靶表面磁场强度 的横向分布进行了实际测量.比较得知,模拟结果和实际测量结果在很高的精度上是一致的.这个结果对于优化磁控溅射 靶枪的设计及提高膜层的特性等方面都具有很高的实用价值. 关键词:磁控溅射;有限元;横向分量;磁通量密度 中图分类号:TB43文献标识码:A文章编号:1004—373X(2009)13—202—02 MagneticFieldAnalysisofCircularPlaneMagnetronSputteringSource QUBaopeng,ZHANGXifeng (ShaanxiInstituteofTechnology,Xian,710300,China) Abstract:Thetransversecomponentofmagneticfluxintensityispivotalthataffecttheutilizationrateoftargetmaterial andqualityofde