纳米线减反层的解析设计法-物理学报.PDF

物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 62, No. 15 (2013) 157801 纳米线减反层的解析设计法* 朱兆平 秦亦强† ( 南京大学现代工程与应用科学学院, 南京大学光伏工程中心, 南京大学固体微结构物理国家重点实验室, 南京 210093 ) ( 2013 年1 月26 日收到; 2013 年4 月12 日收到修改稿) 本文通过分析比较给出了常用二维等效介质理论解析解的适用条件并且将有效介质理论的适用范围推广至零 级衍射边界处, 并通过FDTD 模拟验证了该解析方法的准确性. 这不仅解决了长期以来没有精确二维有效介质理论 (2D-EMT) 解析解的困境, 而且使得直接用解析公式设计和定量解释减反微结构的减反效果变得可能, 有着广泛的 应用前景. 关键词: 零级衍射光栅, 有效介质理论, 太阳能电池减反, 纳米线阵列 PACS: 78.20.−e, 88.40.H−, 43.20.E, 61.46.Km DOI: 10.7498/aps.62.157801 得越来越容易获得. 仿生蛾眼(Moth-eye) 结构18 1 引言 和黑硅(black silicon)19 由于优良的低反射率受到 广泛关注. 人们在理论上试图使用二维EMT 解析 减小反射率无论在太阳能电池 12 还是光电 解得到微结构的等效折射率并取得了进展 20−22 , 探测器以及增透膜领域都是非常重要的研究课题, 但还是能看到二维EMT 解析解与数值模拟或者实 34 5 2123−25 包括介质减反 , 微结构二次反射减反 , 微结构 验数据在某些波段的巨大差距 . 没有精确 等效介质减反6−8 , 微结构散射减反910 等多种方 的二维EMT 解析解仍是一个难题. 法. 通过涂有介质减反层能够将反射率降至0, 但是 本文通过FDTD 数值模拟, 证实众多二维EMT 由于介质涂层折射率的有限性和涂层与衬底的晶 解析解并不是一无是处, 相反, 如果给各个解析解 格失配以及热龟裂等缺点, 大大限制了介质减反层 限定适当的归一化周期, 将会使得相应的解析解非 的应用范围. 另一方面, 周期较小的微结构称作零 常准确, 从而巧妙地解决了没有二维精确解析解的 级衍射光栅, 平面波经过该微结构其波前并不发生 难题. 据此, 进一步提出了基于解析解设计微结构 改变, 这种现象类似平面波经过介质涂层, 因而该 减反层的方法, 该方法简单易行, 经过数值模拟证 层微结构能够等效为减反层, 其等效折射率由有效 实能够准确设计减反微结构层. 为进一步解释黑硅 介质理论(effective medium theory, EMT) 决定. 低反射率和解析设计微结构减反层奠定了基础. 一维微结构的EMT 解析解(closed-form solu- tion) 能够精确地得到微结构的等效折射率1112 . 2 二维等效介质理论适用范围: 零级衍 然而自从上世纪 90 年代以来, 理论上就没有精 射光栅 确二维微结构的EMT 解析解出现 13−15 , EMT 的 热点也从介电材料、半导体材料转向金属超构材 2.1 理论模型 16 料 , 人们绕过推导二维微结构的EMT 解析解, 转而用数值方法得到准确的二维微结构的等效折 当一束平面波入射到周期光栅