超临界抗溶剂技术(sas)制备醋酸锰纳米粒子的研究-化学工程专业论文.docxVIP

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超临界抗溶剂技术(sas)制备醋酸锰纳米粒子的研究-化学工程专业论文

摘要 超临界抗溶剂过程 (SAS) 是一种新兴的微粒化技术,在热敏炸药、聚合物 微球、药物、超导体、催化剂先驱体以及染料制备等领域具有十分广阔的应用前 景。二氧化键是超临界水氧化反应中的良好催化剂,它能有效地加速含盼废水的 彻底降解。本文应用超临界抗溶剂结晶技术制备出二氧化锺催化剂先驱体一醋酸 笛纳米粒子。 本文首先进行了溶剂的选择,通过物性比较和膨胀曲线的计算确定甲醇作为 SAS 过程的溶剂,测定了 CO2/ 甲醇二元体系的临界曲线及甲醇在 CO2 中的溶解 度,并通过对三元体系存在状态的分析确认 SAS 实验方案可行。 SAS 过程研究发现,由于温度影响流体密度和扩散系数,其对产品粒子尺寸 的影响呈非单调趋势,在一定的条件下存在最优值,而且最优值随着压力的变化 而变化,在 16MPa ,48 0C 时,生成的粒子最小。温度也影响粒子形态,稍高于 C02 临界温度时,粒子是凝胶状结构,升高温度转变成球状粒子。 压力增大有助于粒径的减小,达到 16MPa 时粒子尺寸出现最小值,大于 20MPa 后,由于 CO2 扩散系数的降低,粒径略有增加,但变化幅度不大,压力 增大还可以改善粒径分布 。本文同时考察了溶液浓度、喷嘴尺寸以及混合溶剂对 微粒化过程的影响。通过分析研究,确定了适宜的工艺条件:压力 16MPa ,温 度 48 0C ,溶液浓度1.5wt%,并采用直径O.004inch 的喷嘴制得了醋酸镜纳米粒 子。 在以上工作的基础上,本文还从溶液的雾化过程、 CO2 与溶液的双向扩散过 程、溶质的成核及生长过程等方面对 SAS 过程进行了理论分析,讨论了压力、 温度和浓度等工艺参数对最终产品粒子的影响,认为醋酸锺粒子形成过程遵循 一 (液滴〉对多(微粒)机理。 关键词:超临界抗溶剂,纳米粒子,催化剂先驱体 ABSTRACT Supercritical antisolvent ( SAS) is a new technìque for micronization ìn some fields: explosíves,pol归ner mícrospheres ,superconductors ,catalyst precursors and dyes,showìng a wide potential application prospect.Manganese oxíde is .an efficient catalyst which can enhance the degradation ofwaste water contaíníng phenol ín supercritical water oxidation reaction . In甘l1S paper,SAS is used to produce manganese a臼tate nanoparticles 也at is manganese dioxide precursor. Methanol was sieved as solvent in SAS process by comparison of physical properties and calculation of volume exp臼lSion curve. The critic?l curve of C02IMethanol mixture and solubility of methanol in CO2 were also measured. Results indicated that ínf1uence of te.mperature on p缸ticle size(PS) was non -monotonic because of its influence on fluid density and .d值lsion coefficient. Minimum of PS appe的d at 48 C. Temperature also had an influence on p缸甘c1es morphology. Gelatinous structure was fonned under the condition near CO2 critical temperature ,while regul缸 sphere particles appe町ed at higher temperature. Increasing pressure resulted ín smaller PS and n缸rower particle size distribution (PSD). Minimum of PS appeared at 16 l\

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