电浆源原理和应用之介绍.PDF

電漿源原理與應用之介紹 文/張家豪，魏鴻文，翁政輝，柳克強 李安平，寇崇善 吳敏文，曾錦清，蔡文發，鄭國川 摘要 電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程，成為現代科技的重要指標。本文將介紹國內在電漿源方面的研發，其中包 括電感式電漿源，微波表面波電漿源 , 大氣電漿源，電漿浸沒離子佈植及電漿火炬等等。文中將簡介各式電漿源之基本物理 及其應用發展。 1. 前言 discharge) ，低頻及中頻放電(數 KHz 到數 MHz),射頻 放電(13.6MHz) ，及微波放電(2.45GHz) 。現行電漿製 電漿已廣泛應用於各種領域，如在半導體積體電 程多操作在低氣壓之輝光放電(mTorr 到百 Torr) 。而 路製造方面，舉凡不同材料薄膜的成長及電路的蝕刻 操作在 1 大氣壓的低溫電漿製程則是現在研究的重要 皆普遍由電漿技術達成。另外在半導封裝及紡織業方 課題。以半導體製程而言，則以射頻放電被採用的最 面，則使用電漿來清潔及改變材料表面以達到特殊的 多。 功能及效果。在環保方面,電漿火炬可以安全固化焚化 爐所產生之高污染灰渣。甚至在醫療上現已有商用之 本文將簡介數種電漿源，包含直流放電到微波放 電漿設備用於手術刀具的殺菌。而在科學研究方面電 電；低氣壓電漿到大氣電漿；低溫電漿到高溫電漿。 漿更已成為重要的工具，如奈米碳管的成長，微機電 其中由柳克強教授介紹射頻電感偶合放電；寇崇善教 的研發等等。 援介紹微波表面波電漿；吳敏文博士介紹中頻大氣壓 低溫電漿；曾錦清博士介紹直流大氣壓高溫電漿；電 電漿之所以能提供如此廣泛的功能主要在於電漿 漿浸沒離子佈植則由蔡文發博士介紹。本文由鄭國川 中的反應是許多不同成分間的作用(Heterogeneous 博士與寇崇善教授彙編。受限於篇幅，本文並未嘗試 Interactions) ，其中包括紫外線，中性粒子，活化粒子， 全面涵蓋國內在這方面的工作。 電子及離子的反應。尤其是包含了具能量的粒子，它 們能引發許多特殊的化學與物理的反應。例如在電漿 2-1 電感式電漿(柳克強，清華大學工程與系統科學系) 蝕刻技術中，正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速 電 感 偶 合 式 電 漿 (Inductively-Coupled Plasma, 後轟擊矽晶圓，使其表面原子的鍵結破壞進而能迅速 ICP) 為一結構簡單而應用廣泛之電漿源。ICP 之電漿 與活化粒子進行化學反應達到蝕刻效果。另外如在鑽 產生與維持，為利用電磁感應產生之電場，加熱電漿 石膜成長中，電漿一方面產生成長所需要的碳原子， 電子，以應游離反應所需。而電磁感應所需之時變(交 當其在表面形成鍵結時，電漿中所產生的氫原子則能