空气敏感化合物操作.pptVIP

* 有机合成 * (5)腈 乙腈中的大量水，先用分子筛干燥，然后加入CaH2搅拌或摇动，这一步骤不但除水且可除去乙酸。预处理过的乙腈中加人P205后在惰气保护下以高回流比进行蒸馏。蒸馏瓶中可能形成凝胶，只能蒸出少量溶剂而将大部分留在蒸馏瓶中。 作为另一提纯方法，可先与CaH2一起搅拌，再在惰气氛下蒸馏，最后让蒸得的溶剂在干燥的情性气氛下通过活性氧化铝柱。 * 有机合成 * (6)醇 从甲醇和乙醇中除水使困难的。用碘化了的镁屑、钙屑和块状CaH2除去甲醇的痕量水．但这些活泼金属可能含有某种氮化物而使溶剂中含有杂质NH3。这些干燥剂也可用于干燥高碳醇。4A分子筛也可用来除去乙醇和高碳醇中的水； (7)丙酮 丙酮极难干燥，许多常用干燥剂(如MgS04)能与之发生反应。加入4A分子筛长时间放置能在—定程度使之干燥。 获得高纯丙酮的方法是室温下用干燥的NaI使溶剂饱和，倾析并使之冷却至-10 ℃，分离形成的晶体(NaI-丙酮混合物)，将晶体加热至室温，蒸馏所得液体。 * 有机合成 * 3 几种常用气体的提纯 (1)乙炔 乙炔气体装在含有丙酮的钢瓶里出售，丙酮的作用是使乙炔保持低压力。团此，乙炔的主要杂质是丙酮。除去丙酮的方法是让乙炔气体流过NaHS03水溶液，然后流过分子筛使之干燥。如果需用少量的无丙酮乙炔，用电石(碳化钙)和水的反比产生的乙炔是十分方便．但应注意含硫杂质的存在。该法产生的乙炔同样需流经分子筛柱干燥。 应注意，乙快在热力学上不稳定，高压时可能自发爆炸，绝不能在大于0.1MPa的压力下操作。如果用电石法产生乙炔，发生器必须保持冷却，并要保证其中的乙炔气流畅通。 * 有机合成 * (2)氨 可从市场上购得相当干燥的氨。其中痕量水用下述方法除去：于真空体系中使氨气在金属钠上冷凝，待液氨溶液出现蓝色后，用阱到阱蒸馏法将产物收集到反应容器或金属筒中。要防止的危险是骤然上升的氨气压力以高速掀开活塞或者使玻璃仪器爆炸。另一可能存在的危险是真空体系被液氨蒸发过程中形成的雾状金属钠所污染。在干燥管的上方堵以玻璃毛可以减少这种污染。而减压鼓泡器则能减少真空装置中压力骡增的机会。实验人员在操作之前应充分了解真空系统操作方法。 * 有机合成 * (3)卤化硼 这类化合物的操作和提纯要在真空装置上进行。硅活塞脂与卤化硼起反应，大多数烃类真空脂中含有不饱和烃，后者遇到卤化硼这类路易斯酸即发生聚合。 BP3能从市场上以简装形式购得。工业三氯化硼的杂质通常为HCl、COCl和具有一定挥发性的氯氧化合物。卤氧化合物中的杂质不难在清洁的真空装音置里经l～2次阱到阱蒸馏法去除。BCl3在-78℃短时间抽真空可以除去大部分HCl杂质。 液态三溴化硼通常密封存安碚瓶中出售．浅黄色商品中可能含有二溴化物。加入水银一起摇动可以除去这种杂质。演化氢杂质用阱到阱分级蒸馏除去，-45℃的阱收集BBr3，-196℃阱收集HBr。 * 有机合成 * (4)二氧化碳 特别是由于冰产生的二氧化碳气体中主要杂质是水：高真空体系中加进一个活化硅胶阱，然后进行阱到阱蒸馏．可以有效地除去二氧化碳中的水。 (5)一氧化碳 CO中最棘手的杂质是氧。除氧方法是让气流通过担载铜(如Ridox)或担载MnO。 (6)乙烯 氧是其令人讨厌的杂质。除氧方法是让乙烯气流通过MnO或担载铜。 (7)氢 氢中的氧可通过铂-金属催化刑减少到10-9级。气体扩散渗过加热的钯套管可迅速得到超纯氢。 * 有机合成 * (8)卤化氢 可在真空装置上进行阱到阱蒸馏能够除去HCl和HBr中的水。如果这些气体在0.133MPa或低于0.133MPa的压力下操作，则可用-78℃的冷阱使其中的水分冷凝。气体中的卤素杂质用活性炭阱去除。 由于HI和H2，I2，之间存在平衡： 2HI?H2十I2 这个平衡使HI的提纯复杂化.使气流通过红磷或与水银一起振荡即可去除其中I2，然后使气流通过-78℃的冷阱使水冷凝。最后使气体冷凝收集在-196℃的冷阱中。第二个冷阱的出口保持高真空，从而除去H2。 * 有机合成 * (9)二氧化硫 压缩的上业气体可在液氮温度下冷凝抽真空。气体流经P4Ol0。(分散在玻璃毛上)阱可除去其中的水分。 4．无水金属卤化物 这些非常有用的起始物质常与大气中的水分起反应。这些金属卤化物离子半径小，氧化态高，不能通过简单的加热方法使它们脱水。 工业AlCl3和AlBr3常含有羟基杂质，真空下在玻璃仪器中升华可达到一定程度的净化。如果升华之前将优质卤化物和铝丝与1％(质量分数比)的NaCl相混合