原创力文档靶流薄膜械性影之研究玉森瀚文林嘉豪立高雄第一科技大械自化工程系立高雄第一科技大工程科技研究所摘要本研究利用反性非平衡磁控於高速表面上薄膜主要是要探靶流薄膜械性之影固定乙炔流量基板偏基板率工作距基材速子改靶流由逐降至薄膜之晶及微是由及拉曼分析薄膜之摩擦及磨耗率是由磨耗量果示薄膜之摩擦磨耗率靶材流之增加而增加在靶流以上薄膜摩擦介於之随著靶流降低至以下薄膜非晶嵌入碳化物摩擦由降至磨耗率由降至字非晶英文摘要前言近二十年展的陶瓷薄膜中系薄膜已泛用於各中其中薄膜是一具有高硬度高附著力抗沾黏高抗氧化性和耐性其
靶電流對Cr-C-N薄膜機械性質影響之研究
楊玉森1? 葉瀚文1? 林嘉豪2?
1國立高雄第一科技大學機械與自動化工程系
2國立高雄第一科技大學工程科技研究所
摘要
本研究利用反應性非平衡磁控濺鍍於SKH51高速鋼表面上濺鍍Cr-C-N薄膜，主要是要探討靶電流對Cr-C-N薄膜機械性質之影響。實驗固定參數為乙炔流量40%、氬氣25sccm、基板偏壓75V、基板頻率75KHz、工作距離9cm、基材轉速9rpm、離子轟擊電壓400V。改變靶電流參數由5A逐漸降至1A。Cr-C-N薄膜之晶體結構及顯微組織是由XRD、TEM及拉曼分析。薄膜之摩擦係數及磨耗率是由ball-on-disk
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