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氮化处理与介面工程于高介电材料金氧半元件之探讨-国家奈米元件.PDFVIP

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  • 2018-11-16 发布于天津
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氮化处理与介面工程于高介电材料金氧半元件之探讨-国家奈米元件.PDF

    2 Electrical Characteristics of Metal-Oxide- Semiconductor Devices by Nitridation treatment and Interfacial Engineering on High-K Dielectrics

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