低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现-软件工程专业论文.docx

低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现上海交通大学 低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现 上海交通大学 学位论文版权使用授权书 本学位论文作者完全了解学校有关保留、使用学位论文的规定，同 意学校保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子版，允许 论文被查阅和借阅。本人授权上海交通大学可以将本学位论文的全部或 部分内容编入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印或扫描等复制 手段保存和汇编本学位论文。 保密□，在 年解密后适用本授权书。 本学位论文属于 不保密□。 （请在以上方框内打“√”） 学位论文作者签名： 指导教师签名： 日期： 年 月 日 日期： 年 月 日 万方数据 万方数据 万方数据 低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现上海交通大学 低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现 上海交通大学 学位论文原创性声明 本人郑重声明：所呈交的学位论文，是本人在导师的指导下，独立 进行研究工作所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外，本论文不 包含任何其他个人或集体已经发表或撰写过的作品成果。对本文的研究 做出重要贡献的个人和集体，均已在文中以明确方式标明。本人完全意 识到本声明的法律结果由本人承担。 学位论文作者签名： 日期： 年 月 日 万方数据 万方数据 |-HHHH 6HHHH川 - |- HHHH 6 HHHH川 - 咱l m l m H HH HH Z E·E·- 7 川川川们 3 川川川川川 O HHHHH O MM山山川 1 们UU们U l -····· | 姓 名 刘琛 1100372116 所在学科 软件工程 上海交通大学新建楼 2027房间 指导教师 饶若楠 2015-1-20 答辩地点 (徐汇校区) 论文题目 低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现 技票表决结果: r/了/了(同意票数/实到委员数/应到委员数)  答辩结论:0!通过  口未通过 职务 姓名 主席 唐飞龙 答辩委员 答辩委员会成员 委员 陈吴鹏 委员 陈志华 委员 梁阿磊 秘书 郑国英  职称 教授 副教授 副教授 副教授 副教授 助理实验师 7el!;马 f 月7，..口 签名 也在 4. 荔术委 低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现 低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现 低压化学气相沉积设备控制系统的设计与实现 摘 要 低压化学气相沉积 (Low Pressure Chemical Vapor Deposition，LPCVD) 技术是薄膜 太阳能行业中的核心技术，是生产透明导电氧化物（Transparent Conducting Oxide, TCO） 玻璃的主要方法。TCO 玻璃是指用物理或化学的方法在表面均匀沉积一层透明的导电氧 化物膜的平板玻璃，主要用作薄膜太阳能电池的前基板（电极），它的性能对于薄膜太 阳能电池的最终转换率有着相当大的影响[1]。TCO 玻璃的生产过程繁琐，需要多个设备 协同工作，在生产完成后需要用氮气清理腔体并进行长时间的抽空，降低了设备的生产 效率。在有多台设备进行生产的环境中必然会出现工艺耗时较长的设备长期处于满载， 而工艺耗时较短的设备长期空载，如果无法进行合理的调度必然会造成设备资源的浪 费。设备多样且分散也不利于搜集对比生产数据和进行设备管理。设备控制多是在密闭 不透明的腔体内进行，无法直观的看到腔体内状态的变化，也给操作人员带来了许多困 扰。这些问题逐渐成为了 LPCVD 设备发展的瓶颈。 本文以国内某知名光伏设备制造商（以下简称 E 公司）的实际项目为背景，在分析 了 LPCVD 设备的生产过程的基础上，设计并实现了一种新的 LPCVD 设备的控制系统。 该系统包括了图形界面控制、用户帐户管理、错误校正、工艺配方管理、设备安全运行 保护机制、设备实时状态数据管理、非实时设备信息管理等功能模块，测试及应用情况 表明该系统实现了设备的精确控制与调度优化，提高了生产效率。 相比同类的其他系统，本文的研究工作主要有以下特点： 1. LPCVD设备控制系统选择Prodave驱动库和TCP/IP通讯协议与西门子的PLC进行通 讯，采取不断遍历PLC的每一个模块来获取最新的数据，可以达到10毫秒就可以遍历200 个IO点，最大限度的保证了系统的实时性。 2. LPCVD 设备控制系统 通过 采用 C/S 架构和 WCF 技术来实现多客户端同时访问 LPCVD设备，从而使得当一个操作员在一台电脑上进行操作时，另一台电脑也可以查看 工艺数据与机台运行状态，避免了排队操作的情况。 I 3. LPCVD设备控制系统采用WPF技术来实现图形化的客户端界面，通过从PLC上获取 的IO点来绘制真实设备的剖面图，为操作员直观的展示腔体里当前的运行状态。同时提 供了相应的操作页