光子晶体介绍.ppt

* * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 2、乳液聚合法合成PS微球 一、胶体微球合成和 简单胶体晶体制备（3） 图4.4 合成的PS微球，直径分别为：(a) 200nm ,(b) 490nm,(c) 1000nm, (d) 1320nm. 结论： 影响PS微球大小、单分散性的主要因素: （1）苯乙烯单体量的影响； （2）表面活性剂（SDS）的 影响； （3）二乙烯基苯（DVB）的 影响。 * 3、垂直沉淀法制作胶体晶体(1) 一、胶体微球合成和 简单胶体晶体制备（4） 图4.7单分散胶体微球的 垂直沉积组装示意图 图4. 8 (a)，(b)分别为直径为450nm 的SiO2胶体 自组装在硅片上的两个样品的照片。 结论：两种微球都适应，球粒直径小于2微米比较容易组装。 * 3、垂直沉淀法制作胶体晶体(2) 一、胶体微球合成和 简单胶体晶体制备（5） 图4.9直径为450nm的SiO2微球形成胶体晶体的SEM：(a)顶部低倍放大图像； (b) 顶部高倍放大图像；(c) 侧面低倍放大图像；(d) 侧面高倍放大图像。 图4.10 直径为450nm的SiO2胶体 晶体的反射谱。 理论990.6nm-----测试995nm * 4、水平沉淀法制作胶体晶体(1) 一、胶体微球合成和 简单胶体晶体制备（6） 图4.11 水平沉积法的示意图 图4.12(a) 、(b)分别为直径为495nm PS胶体自组装在载玻片上的照片 * 4、水平沉淀法制作胶体晶体(2) 一、胶体微球合成和 简单胶体晶体制备（7） 图4.13直径为495nm的PS微球形成胶体晶体的SEM：(a),(b), (c)分别是顶部不同放大倍数的图像； (d) 侧面低倍放大图像。 结论：较适合PS微球，直径可以达到10微米以上。 * 4、水平沉淀法制作胶体晶体(3) 一、胶体微球合成和 简单胶体晶体制备（8） 图4.14(a)直径为495nm的PS微球构成的胶体晶体的SEM； (b) 直径为495nm的PS胶体晶体的反射谱； (c) 直径为790nm的PS微球形成胶体晶体的SEM； (d) 直径为790nm的PS胶体晶体的反射谱。 PS胶体晶体的透射谱中，晶体的Bragg 峰位置在分别在1120nm和1890nm，非常接近理论计算值1180nm和1883nm。 * 三、实验制作和分析表征 第四章 胶体微球合成和简单胶体晶体制备 第五章 复杂胶体结构和带有功能缺陷结构的晶体制备 第六章 太赫兹波段光子晶体结构的制作 * 1、一元胶体晶体反相结构的制作---520?mPS微球 二、复杂胶体结构和带有功能缺陷结构的晶体制备（1） 图5.3，不同次数SiO2前驱体渗透，并去除PS 微球后的顶部图像： (a) 一次渗透, (b) 二次渗透, (c) 三次渗透，(d) 四次渗透。 * 2、二元胶体晶体反相结构的制作（1） 二、复杂胶体结构和带有功能缺陷结构的晶体制备（2） 图 5.5 (a) 6个小球环绕1个大球的二元结构；(b) 18个小球环绕1个大球的二元结构。 图 5.6 与图 5.5 (a) 相对应结构的能带结构；(b) 与5.5(b) 相对应结构的能带结构。 * 2、二元胶体晶体反相结构的制作（2） 二、复杂胶体结构和带有功能缺陷结构的晶体制备（3） 图5.7(a)样品1的高倍顶部视图 ； (b) 样品2的高倍顶部视图； (c) 样品1的反相结构； (d) 样品2的反相结构。 图 5.8 (a)，5.7(c)结构对应的光谱; (b) 样品5.7(d)的透射光谱。 结构中的禁带主要与大球（直径789nm)有关系，小球粒(直径154nm)的分布不显著影响结构禁带的形成，尽管小球对结构的折射系数有贡献。 * 3、一元胶体晶体反相结构的制作（3） 二、复杂胶体结构和带有功能缺陷结构的晶体制备（4） 图5.9 样品的 SEM 图，(a)低放大倍数； (b)高倍的顶部视图； (c)部分放大图；(d)另一本部分的放大图。 图 5.10样品5.9(a)的透射光谱 有待研究：非密堆结构 小球的排列。 * 3、带有人工缺陷光子晶体结构的制作（1） 二、复杂胶体结构和带有功能缺陷结构的晶体制备（5） 图5.11在蛋白石和反相蛋白石中 嵌入面缺陷的过程示意图 图5.12 存在面缺陷的蛋白石及其反相结构的SEM照片：(a、b)