Ar刻蚀对MoS2润滑膜分子结构影响.PDFVIP

第 2 1 卷　第 1 期 摩 擦 学 学 报 2 1, 　 1 V o l N o 200 1 年 1 月 TR IBOL O GY J an , 200 1 A r+ 刻蚀对M oS2 润滑膜分子结构的影响 齐尚奎, 余来贵, 吕晋军, 杨生荣 ( 中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室, 甘肃 兰州　730000) 摘要: 采用 + 离子溅射源进行 和 剖面分析, 结果发现, + 对 分子中的 原子产生“择优”选择刻蚀 A r X P S A E S A r M o S2 S 并随之生成非化学计量比的M o Sx ,M o 原子被还原,M o 3d 结合能值向低端位移约 1. 7 eV . 应该注意的是, 采用A r+ 溅 射进行 剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态, 原子比同实验值之间亦存在差异, 故应采用 X P S S M o 有关软件对实验结果进行修正. 关键词: 氩离子溅射; 择优刻蚀; X P S; A E S; 剖面分析 ( ) 中图分类号: O 6 14. 6 12; O 657. 62 文章标识码: A 文章编号: 200 1 0 1004704 　　 是典型的固体润滑剂. 因其优 良的化学稳 用 5702 型多功能 射线光电子能谱仪对 M o S2 PH I X 定性和层间易滑移的晶体结构而被广泛应用于各种 M o S2 润滑膜进行X P S 和A E S 剖面分析, 测试真空 接触形式的摩擦部件表面, 起 良好的减摩抗磨作用. 度小于 1 ×10- 7 , 分析面积在 0. 3～ 1. 1 2 P a X P S mm 通常将粉晶M o S2 粘结在摩擦部件表面, 也可通过物 范围内可调, 并附有 Si ( 100) 单色器 以提高其分辩 理气相沉积(PV D ) 或磁控多靶溅射在工件表面制得 率. A r+ 溅射面积处于 0～ 10 mm 2 范围内, 溅射区域 其润滑膜. 关于M o S2 润滑膜的作用机理的研究很 在 x 轴和y 轴方向上可调, 以便在测试过程中选择 多, 一般认为其分子在垂直于载荷方向发生滑移并在 不同的刻蚀速率. 采用强度可调的氩离子枪和中部带 底材表面形成低摩擦 的定 向转移膜[ 1, 2 ]. 徐桂珍 有 250 圆孔的法拉第杯, 将待测样品安装到法拉 m 等[3～ 5 ] 采用X