脉冲电沉积块体纳米晶Co—Ni合金微观组织结构的研究.PDFVIP

第 37卷 第 g期 金 属 学 破 V01．37 N0．8 2001年 g 月 ACTA METALLURGICA SINICA August200 1 脉冲电沉积块体纳米晶Co—Ni合金 微观组织结构的研究 乔桂英 荆天辅 肖福仁 高聿为 (燕山大学材料科学与工程学院，秦皇岛 066004) 摘 要 利用TEM ，XRD 、x射线能量散射谱 (EDS)，位 敏感原子探针场高于显微镜 (PoSAP)等方法研究了脉 冲电沉积法制备的块悼纳米晶Co—Ni台垒的微观组织 结果表明 沉税屠中 Co智h十随电解渡中 Co一离子诔度增加而显著增 加，沉积层合盘点阵彗数随 Co古量的增加按 Vegard定律增打口．1司时晶粒尺寸喊小 当晶垃尺寸喊小到十几纳米时，出现附加 的晶格膨胀煎应 昧冲沉积与直流饥租相比 晶粒叫显细化 PoSAP操作的在 观测和大量数据的计杆机三维重构图表明．Co 原于在沉襁层中呈均匀分布．FIM 观察分析表明纳米晶Cc卜Ni台盘巾存在三娄晶问结梅：正常品拜，非长程有序也非短程有序 的 “类气态结构”和少量暗区 关键词 脉冲电沉积 纳米晶体、cD—Ni台皇，惜脱结构 中圉法分类号 TG113．12，TB383 文献标识码 A 文章编号 0412—1961(2001)08-08L5~05 STUDY 0N M ICR0STRUCTURE 0F PULSE ELECTR0一 PLATED BUCK NAN0CRYSTALLINE C0一N iALL0Y QL40Guiying，JING T~a．nfu，XIAOFuren．GAOYuwei CollegeofMuterlalsSciences【Englneering，Yunsh~aUni~*ersity，Qiahuu~gdao060004 Correspondent：口 0Guiyin9 seniorengineer，Tel：(0335)8057047jFax：(0335)8052114 E-mail：frxiao@ysu．eduCn Manuscriptreceived2000一i0—13．in revi~dform 2001—04—12 ABSTRACT The microstructures of nanocryatMline Co—Nialloy produced by pulse c0一 electrodepositionhavebeenstudiedbyTEM XRD EDSandfieldionmicroscopy(FIM)withpo— sitionsensitiveatom probe(PoSAP1TheresultsshowthattheCo—COntentinthedepositsincreases significantlywiththeincreasingC0 concentrationinelectrolytes．W ithincreasingofCocontentthe grain sizedecreasesandlatticeparametersincreaseaccordingto~ gardlaW Thelatticeaxpansion PhenomenonOccurswhengrainsizedecreasesto10—20nm ．ComparedtoDC deposition．thedeposits withfinerKra~nsizereobtained The3D reeonstructureofPoSAPdatashowsthatCoatomsarestill uaiformlydistributed．FIM analysesshow therearethreekindsofboundary．normalboundary．gaslike dsiorderstructureandalittledarkregion KEY W 0RDS pulseCO—electrodeposition．nan