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离子辅助IAD IAD技术是在电子束蒸发的同时用离子束轰击，离子由离子源产生，离子束由栅极引出，电子枪和离子源各自独立工作。膜层在离子的轰击作用下获得能量，使结构得到改善。 反应离子镀 反应离子镀（RIP）是个混合蒸发的过程：在电子枪蒸发的同时，等离子体发生源灯丝与电子枪蒸发材料的坩埚之间产生放电，被引入的反应气体与蒸发材料都被部分电离为等离子体，并在电场中被加速，在气体放电中离子与离子、离子与电子发生碰撞并反应，在荷能粒子的轰击下薄膜凝结基底表面。 离子体增强的离子辅助技术 等离子源采用热阴极、筒状阳极及轴向发散形磁场，在辅助沉积过程中，放电气体(Ar气)进入APS源，放电产生的等离子体在交叉电磁场的作用下被拔出APS，并在电磁场作用下漂向基板，放电气体形成的等离子体形成一个园维体充满基板下的空间。这时充入反应气体(O2等)，等离子体电离并激活反应气体及从电子枪蒸发出的材料分子，并在基板上得到符合化学计量比的电介质薄膜。 * 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 APS1104 德国 Leybold 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 APS1104真空室内情况 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 镜片悬挂 机构 中国科