项目一 真空及真空获得..doc

PAGE 2 PAGE 1 光学薄膜技术 贺军峰 主编 光电工程系 河南工业职业技术学院 目录 TOC \o 1-3 \h \u HYPERLINK \l _Toc29781 项目一 真空及真空获得 PAGEREF _Toc29781 3 HYPERLINK \l _Toc1714 任务一、真空的定义 PAGEREF _Toc1714 3 HYPERLINK \l _Toc9408 任务四、区域划分 PAGEREF _Toc9408 4 HYPERLINK \l _Toc8661 任务五、真空度对薄膜工艺的影响 PAGEREF _Toc8661 4 HYPERLINK \l _Toc24780 任务七、真空泵 PAGEREF _Toc24780 5 HYPERLINK \l _Toc3446 任务八、真空测量 PAGEREF _Toc3446 8 HYPERLINK \l _Toc26169 项目二 物理气相沉积 PAGEREF _Toc26169 11 HYPERLINK \l _Toc11616 任务一、物理气相淀积（Physical Vapor Deposition, PVD）的第一类 PAGEREF _Toc11616 11 HYPERLINK \l _Toc23176 任务二、在PVD中的第二大类 PAGEREF _Toc23176 18 HYPERLINK \l _Toc9833 项目三 硅化学气相外延 PAGEREF _Toc9833 26 HYPERLINK \l _Toc30507 任务一、CVD概况 PAGEREF _Toc30507 26 HYPERLINK \l _Toc7269 任务二、反应机制分析 PAGEREF _Toc7269 29 HYPERLINK \l _Toc2088 任务三、生长动力和机制 PAGEREF _Toc2088 36 HYPERLINK \l _Toc3259 任务四、成核 PAGEREF _Toc3259 42 HYPERLINK \l _Toc22747 任务五、掺杂剂的引入 PAGEREF _Toc22747 44 HYPERLINK \l _Toc4773 任务六、表面形态和外延缺陷 PAGEREF _Toc4773 49 HYPERLINK \l _Toc18360 任务七、生长工艺 PAGEREF _Toc18360 53 HYPERLINK \l _Toc2654 任务八、CVD外延生长的特点 PAGEREF _Toc2654 58 HYPERLINK \l _Toc16705 任务九、CVD在器件上的应用 PAGEREF _Toc16705 59 HYPERLINK \l _Toc29385 任务十、结论 PAGEREF _Toc29385 59 HYPERLINK \l _Toc9101 项目四 硅分子束外延 PAGEREF _Toc9101 60 HYPERLINK \l _Toc10589 任务一、基本概况 PAGEREF _Toc10589 60 HYPERLINK \l _Toc22283 任务二、分子束外延的发展历史背景 PAGEREF _Toc22283 61 HYPERLINK \l _Toc14931 任务三、硅分子束外延的重要性 PAGEREF _Toc14931 63 HYPERLINK \l _Toc3695 任务四、外延生长设备 PAGEREF _Toc3695 63 HYPERLINK \l _Toc3951 任务五、表面制备 PAGEREF _Toc3951 68 HYPERLINK \l _Toc28389 任务六、外延生长 PAGEREF _Toc28389 69 HYPERLINK \l _Toc22997 任务七、掺杂 PAGEREF _Toc22997 74 HYPERLINK \l _Toc11006 任务八、低能离子注入掺杂 PAGEREF _Toc11006 89 HYPERLINK \l _Toc14284 项目五 硅液相外延 PAGEREF _Toc14284 96 HYPERLINK \l _Toc11768 任务一、液相外延生长的原理： PAGEREF _Toc11768 96 HYPERLINK \l _Toc23904 任务二、过冷生长动力学（逐步冷却，冷却速率恒定） PAGEREF _Toc23904 97 HYPERLINK \l _Toc8782 任务三、设备和试验方法： PAGEREF _Toc8782 99 HYPERLINK \l _To