基于干涉法的晶体表面微损伤的定位与表征-上海应用物理研究所.PDFVIP

第 41 卷 第 7 期 核 技 术 Vol.41, No.7 2018 年 7 月 NUCLEAR TECHNIQUES July 2018 基于干涉法的晶体表面微损伤的定位与表征 金利民 宋 丽 祝万钱 罗红心 徐中民 张增艳 （中国科学院上海应用物理研究所张江园区 上海 201204 ） 摘要 硅晶体是同步辐射光源光束线站上的关键光学材料之一，主要应用于双晶单色器，其主要作用是将单 一波长的谱线分离出来以用于特定的分析实验，实现同步辐射光的“单色化”。因此，晶体的加工质量对同 步辐射光的品质具有重要影响，对晶体受光面的质量检测工作也就显得尤为重要。目前的常规方法主要是使 用光学显微镜与扫描电镜来检测晶体的表面质量，查看肉眼不可见的微小裂纹、凸起、划痕以及沟槽等损伤。 通过实验的方法，提出一种基于光干涉法的较为简便可行的检测方法，即联合利用 Fizeau 型激光干涉仪与原 子力显微镜来检测与定量表征处于晶体工作面的上述损伤。通过确定微损伤的具体位置、定量表征损伤区域 的大小（长度、宽度、高度/深度等），评估该微损伤对晶体光学性能的可能性影响，为晶体的表面质量检测 与表征提供一种有效可行的简便方法。 关键词 同步辐射，硅晶体，微损伤，干涉法 中图分类号 TL99 DOI: 10.11889/j.0253-3219.2018.hjs.41.070101 Positioning and characterization of micro-damage on silicon crystal surface based on optical interference method JIN Limin SONG Li ZHU Wanqian LUO Hongxin XU Zhongmin ZHANG Zengyan (Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Zhangjiang Campus, Shanghai 201204, China) Abstract [Background] Silicon crystal is one of the key optical materials in synchrotron radiation beam line. It is mainly used in double-crystal monochromator. Its main function is to separate the single-wavelength beam for the specific analytical experiments. Therefore, the processing quality of the crystal has an important impact on the synchrotron radiation quality, and the quality inspection on the beam-receiving surface of the crystal is also particularly important. The current conventional method is mainly to use optical microscopy and sca