所谓真空是低于当地大气压的气体状态.DOC

新一代磁控溅射和阴极电弧离子镀设备的真空机组 龚建华 储继国 所谓真空是低于当地大气压的气体状态。真空的度量借用了压力的概念，压力越低，真空度越高。因此压力是反映了真空的数量。尽管有没有数量便没有质量这一说法，然而真空的质量并不全用压力的大小来表征。因为本来不同的真空应用要求的压力大小就是不一样的，所以真空的质量往往更注重残气的成份，也就是某些成份的分压的大小。当然不同的应用场合对分压强的要求也是不同的，而对于溅射镀膜来讲，尽量低的油蒸汽分压和尽量低的水蒸汽分压是绝对需要的。无油无水是很多真空应用所苛求的境界，溅射镀膜也不例外。 蒸发镀膜和溅射镀膜是物理气相沉积的两种主要方法，对蒸发镀膜而言，最主要的是蒸发源到工件的距离要小于平均自由程，才能最大限度地减少蒸发过程中粒子的散射和能量损失，为此，真空度应高于1×10-2Pa，此时空间的水蒸汽分压还不足以对膜层造成显著影响，因为蒸发速率很大，成膜时间很短。即使如此，分压更低的油蒸汽（主要是扩散泵机组）仍会对沉积膜层产生较明显的影响，尤其是物理方面的，如结合力及外观色泽等，这终究是不足之处。而对于溅射镀膜来讲，即使是高效的磁控溅射镀膜，相对于蒸发镀膜沉积速率也偏小，一般需要较长的沉积时间，故沉积过程中油蒸汽和水蒸汽对膜层的影响更为严重。前者会影响膜层结合力；产生针孔；夹裹在膜层中会影响其长期的稳定性。后者会造成膜层的局部氧化，膜层疏松；在反应溅射中还会改变膜层的化学计量比，产生色差等。因此在溅射镀膜中对油蒸汽和水蒸汽的控制尤为重要。然而降低油蒸汽的影响对扩散泵设备并没有特别有效的方法，挡油阱是唯一可行的方法，它只能适当降低但不能根除油蒸汽，即使把一般的水冷更换为液氮冷却也是如此。用有油的的真空机组必定会产生油污染应是确信无疑的。在降低水蒸汽影响方面，高温烘烤，延长抽气时间是较为有效的方法，故已经成为溅射镀膜工艺中传统的模式。当然在一些膜层质量要求不高的场合中，也会出现对传统的背离。曾见过在30%水蒸汽氛围中于柔性基材上溅射沉积金属膜，其膜层有明显的被氧化痕迹。 磁控溅射作为一种高效沉积方法很快在工业生产中普及并且发展迅速，特别是本世纪初前后，中频溅射、脉冲溅射，脉冲偏压技术，旋转靶技术等使磁控溅射技术得到长足的进步。柱状靶、平面靶、阴极弧源等的组合技术频频出现于一线的生产设备。传统的水电镀向真空镀转向已经成了一种潮流。然而真空沉积技术中，真空和沉积是一个问题的两个方面，它们相对独立又紧密联系，以上列举的应是沉积方面的进步，而真空技术方面的变化和进步似乎不大。在这领域传统的高真空机组仅有扩散泵和涡轮分子泵机组，值得欣慰的是也有五十年历史的涡轮分子泵开始有限地取代了更为久远的油扩散泵。而针对溅射镀膜中追求无油无水的条件，扩散泵的返油已成为一种顽疾，没有根本的解决方法。在抑制水蒸汽方面也存在先天的缺陷，并不是说扩散泵不能抽除水蒸汽，而是由于溅射镀膜典型的沉积压力下，为维持扩散泵的正常工作而采取的节流措施使扩散泵的抽速大打折扣。骤然减小的抽速在放气量一定的条件下只能听任水蒸汽分压成倍的飙升，从而失去了精抽过程所带来的较低的水蒸汽本底。对涡轮分子泵而言，虽可以做到无油蒸汽污染，但在溅射沉积的压力下，一般口径的分子泵进不了完全的分子态，这就使泵的抽速达不到标称抽速，从厂家提供的抽速曲线就可以看出，尽管泵在精抽过程中能以额定的抽速工作，由于溅射沉积的特点，泵在工作压力下（典型的0.3-0.5Pa）的抽气能力更是至关重要的，有业内人士对大多数厂家的不同口径的涡轮分子泵做过0.5Pa下抽速的专门测试，其结果令人愕然。总而言之，传统的溅射镀膜高真空机组，在所能获得的真空质量上是存在若干遗憾的地方，在沉积手段日新月异的形势下，就更加突出了进一步提升的必要。 本世纪初问世的分子增压泵，作为高真空泵的显著特点是其工作压力比扩散泵和涡轮分子泵提高了两个数量级，这一特点注定该泵在溅射镀膜中具有绝对的优势。因为它在溅射镀膜阶段与抽本底的过程一样保持强劲的抽速。下面从两个方面来讨论在现代磁控溅射镀膜中以提高真空质量为目的真空机组的改造问题。首先是采用分子增压泵为主泵的抽气机组及相应的抽气工艺。其次是以分子增压泵与低温冷凝水蒸汽捕集泵（水汽泵）形成的组合抽气机组及其抽气工艺。水汽泵是工作在-130℃的低温冷凝泵，能有效地抽除水蒸汽及其它可凝性气体，而对永久性气体无抽气作用。 分子增压泵高真空机组 首先介绍一下机组的结构，从分子增压泵的抽速曲线可以看出，100Pa起泵就具有明显的抽速。由此刻到达满抽速遵从的是所谓恒流量工作模式（相关文章中有所介绍）。抽速随压力的降低反比增大，与罗茨泵的恒抽速模式不同，压力下降速率极快。而100Pa的压力仅靠前级泵在合理时间