近物实验真空的获得和习镀膜实验.docVIP

PAGE 6 PAGE 15 专题 MACROBUTTON MTEditEquationSection2 SEQ MTEqn \r \h \* MERGEFORMAT SEQ MTSec \r 1 \h \* MERGEFORMAT SEQ MTChap \r 1 \h \* MERGEFORMAT 实验（二）： 真空的获得和镀膜实验 真空镀膜，是指在真空中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射，沉积到基片固体表面形成单层或多层薄膜，使得固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能。 真空镀膜的历史最早可追溯到19世纪，1842年英国的Grove和德国的Plücker相继在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜，这就是真空镀膜的萌芽。但是，真正应用于研究的溅射设备直到1877年才初露端倪。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认识长期处于模糊不请状态。所以，在1950年之前有关溅射薄膜特性的技术资料，多数是不可靠的。20世纪中期，只是在化学活性极强的材料、贵金属材料、介质材料和难熔金属材料的薄膜制备工艺中采用溅射技术。1970年后出现了磁控溅射技术，1975年前后商品化的磁控溅射设备供应于世，大大地扩展了溅射技术应用的领域。到了80年代，真空镀膜技术方从实验室应用技术真正地步入实用化大量生产的应