《J BT9495.7-1999-光学晶体光学均匀性测量方法》.pdfVIP

ICS 17.180;31.030 N 05 中华 人 民共和 国机械 行 业标 准 JS/T9495.7-1999 光学晶体光学均匀性 测量方法 Measuringmethodforopticalhomogeneity ofopticalcrystal 1999一08一06发布 2000一01一01实施 国家 机 械 工 业 局 发 布 JB/T9495.7- 1999 前 言 本标准是对ZBN05001甲7-碱光学晶体光学均匀性 测量方法》的修订。本标准根据CB/T1.1- 1993和GB/f1.22-1993的要求对原标准作了编辑、文字上的修改，主要技术内容没有变化。 本标准自实施之日起，代替ZBN05001.7-86, 本标准由仪表功能材料标准化技术委员会提出并归口。 本标准由北京玻璃研究所负责起草。 本标准主要起草人:杨学志。 本标准 1986年6月首次发布。 中华人民共和国机械行业标准 光学晶体光学均匀性 测t方法 JB/T 9495.7- 1999 代挤ZBN03001.7-86 M-S-bg .以加d扮 叩吐目加.甲叫灯 吐甲生目口，目 范圈 本标准适用于直径不大于2000.的光学晶体光学均匀性的mti,侧盆折射率微差的精度为:d，二: 1x10-e 2 引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用面构成为本标准的条文。本标准出版时所示版本均为 有效。所有标准都会被修订.使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。 IB/19495.1- 199!) 光学 晶体 3 原理 光学均匀性系相同一块光学晶体内部折射率微差的大小。 当一块内部折射率分布不均匀的光学晶 体放在干涉仪(如台曼干涉仪)的m呈光路中时，干涉仪原笔直规则的干涉条纹会产生弯曲或其它变形 用这种光程改变而引起的干涉条纹弯曲与光学晶体内部折射率分布豹关系即可判断其光学均匀性的好 坏。公式(1)给出了这种对应关系: 令么二一(:一Ugh LIq二一一一不— 式中: 7一一光学晶体的折射率; △。— 样品干涉条纹的变化量; }h- 祥品表面面形误差(这里指贴置玻璃表面平面度局部光3 卜 h- 样 品厚度 ，~ 。 4 仪号 本标准采用台曼一格林干涉仪(或激光多光束球面干涉仪)。其光路示意图如图to 5 样品 5.1 测量光学均匀性的光学晶体样品应力双拆射应小于二类。散射颖粒度为二类以上。 5.2样品加工成外形规整，两通光面平行度小于1，面形平整用303.砂细磨。以刀刃尺检验，肉眼观察 无缝为准。 5.3 侧量前样品需在恒 温室 内放晋 12h. 国家机械工业局 1999一08一06批准200〕一01一01实施 IB/T9495.7-1E9旧 1一单色光诬;z-准直物镜;3一分束倪;4一样品;，一贴t玻确一对; 6一标准平面反射镜;，一补尝板;8一参考平面反射镜;9一望远俄;10-观侧系统 图1 台受一格林干涉仪光路示惫图 6 测. 6.， 条件 6.1.1 测试时恒温室温度波动不得超过t0.5C/h，室内相对湿度不大于75%. 6.1.2 测ti过程中要隔展，防展周期小于3Hz/s,隔屁展幅小于0.211m, 6.1.3 贴置用折射液与样品折射率差小于 1x1