恒定表面浓度扩散在恒定表面扩散中.PPT

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恒定表面浓度扩散在恒定表面扩散中

* 第九章 傅立叶积分法 有界空间 傅立叶级数 无界空间 傅立叶积分 §9.1 无界弦的自由振动 代入泛定方程 由于无界空间,没有边界条件,?为连续值. 对分立值的求和应该转变为连续参量的积分. 讨论: 当? 0时, 当? = 0时, 由于 , 排除? 0. 由于 , 当? 0时, (?可正可负) 由于没有边界,?不再限制只能是一些分立值(本征值),可取任意的实数值. 分离变数形式的解: 一般解: 由初始条件, 将上面式子的右边也展开成傅立叶积分,比较系数,得: 分别是 傅立叶的变换式. 延迟定理: 第一、三项 傅立叶变换 无界弦(杆)振动的达朗贝尔公式 §9.2 无界杆的导热问题 代入泛定方程 代入初始条件 将 展成三角形式的傅立叶积分, 积分公式: 无界杆导热问题的基本解 改写为: 无界杆导热问题的格林函数 非齐次的定解问题 应用冲量定理, 改写为: §9.3 半无界体的扩散问题 一、限定源扩散(预淀积扩散) 半导体扩散工艺的硼、磷扩散是慢扩散,杂质扩散深度远小于硅片的厚度。杂质穿过硅片的一面向里扩散问题,完全可以不管另一面的存在,即可以将硅片看成半无界空间。在限定源扩散中,是只让硅片表层已有的杂质向硅片内部扩散,但不让新的杂质穿过硅片表面进入硅片。 ?0为单位面积预先淀积在硅表面上的杂质分子数 解:由于边界条件为第二类边界条件,把初始条件偶延拓到 (- ?, 0),成为无界问题,x = 0处的边界条件自然满足. 定解问题变为 【讨论】 表面浓度N0 扩散系数 杂质浓度随时间的分布 杂质浓度随x的增大而减少的趋势变得不明显,杂质浓度趋于均匀. 验证结果的正确性 曲线在x = 0处的斜率为0,表明没有新的杂质进入硅. 可见扩散过程中杂质的总量不变. * *

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