电参数对磁控溅射纯cr镀层沉积过程的影响材料科学与工程专业论文.docxVIP

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2019-01-20 发布于上海
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电参数对磁控溅射纯cr镀层沉积过程的影响材料科学与工程专业论文

西西安理工大学硕士学位论文 sP ut te re d C r at o m s an d o th e r b o m b ard m en t io n s th em se lv e s . F in a lly ，th e tw o k in d s o f en erg y u n d er d iffe ren t e le e tri e ity P ar am e ter s w ere re ck o n ed ， an d a s tru e tu re z o n e m o d e l re lat in g to th e e lo se d 一fi e ld u nb a lan e e d m a gn et ro n sP u tte ri n g sy s tem w a s e s tab lish e d . Ke y w o r d s : e le e tri e ity P ar am et e rs ; P ure C r co at in g s ; m icro m o rp h o lo g y ; stru e tu re z o n e m o d e l Th is w ork ob tain ed fu n d su P P o rt fro m Th e N at io n al H igh 一techn o lo g y R eseare h an d D ev elo Pm en t P ro gr am (8 6 3 )，th e P roj ec t n u m b er 15 2 0 0 5A A 3 3 H 0 10 . IV 目目录目录 1 绪论 ..............……，.........................................................................……，................................…… 1 1.1 表面工程技术的发展 ....……，........................................................................……，.....................…… 2 1.1.1 表面工程概述 ........... ................……，……，……，.....................................................................……，....……，.2 1.1.2 物理气相沉积技术及其特点 ....................... … …，............................................................................…… 3 1.2 气体放电、等离子体与溅射技术 .…，.......................................................................................……4 1.2 .1 气体放电 ............................................................................................................... ..........................…… 4 1 .2 .2 等离子体 ...................................……，................................................................................................…… 4 1.2 .3 溅射技术 .....................................................................