pecvd制备掺杂纳晶硅薄膜的性能研究凝聚态物理专业论文.docxVIP

PECVD制备掺杂纳晶硅薄膜的性能研究 PECVD制备掺杂纳晶硅薄膜的性能研究 ·III· 目 录 中文摘要．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．． I 英文摘要．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．II 第一章前言 1．1硅薄膜和硅薄膜材料的发展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．． 1．2硅薄膜的结构及模型．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．． 1．3硅薄膜材料光致衰退效应．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．． 1．4硅薄膜的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．． 1．5研究硅薄膜的电化学腐蚀的意义．．．．．．．．．．．．．．．．． 第二章硅薄膜的制备技术及其表征设备 7 2．1硅薄膜的制备方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．． 7 2．1．1射频增强和甚高频等离子增强体化学气相沉积法．．． 7 2．1．2介质层阻挡放电和微波电子回旋共振等离子体增强 化学气相沉积法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8 2．2等离子体化学气相沉积(PEcVD)系统．．．．．．．．．．．．． 9 2．2．1 PECVD原理简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．． 9 2．2．2 PECVD沉积纳晶硅薄膜的机理．．．．．．．．．．．．．．10 2．3硅薄膜的主要表征设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11 2．3．1 X射线衍射仪(XRD)．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11 2．3．2扫描电子显微镜(SEM)．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13 2．3．3四探针电阻测试仪．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14 万方数据 ·IV- ·IV- 湖南师范大学硕士学位论文 2．3．4 CS电化学工作站．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14 第三章掺杂纳晶硅薄膜的制备及特性分析 17 3．1实验设计．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17 3．1．1实验仪器．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17 3．1．2实验准备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17 3．1．3实验步骤．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17 3．2特性分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18 3．2．1沉积温度对硅薄膜的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．18 3．2．2不同射频功率制备的硅薄膜．．．．．．．．．．．．．．．．19 3．2．3掺杂硅薄膜的电学特性分析．．．．．．．．．．．．．．．．20 第四章硅薄膜抗腐蚀性能的研究 23 4．1电化学腐蚀技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23 4．2硅薄膜腐蚀机理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24 4．3实验步骤．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25 4．3．1制备盐桥．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25 4．3．2加工待测硅薄膜．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26 4．3．3电解池的连接．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26 4．3．4配置酸液腐蚀液．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27 4．4电化学腐蚀数据分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27 4．4．1硅薄膜的制备温度对其腐蚀速率影响．．．．．．．．．．28 4．4．2硅薄膜的硼掺杂浓度对其腐蚀速率的影响．．．．．．．30 4．4．3硅薄膜制备功率对其腐蚀速率的影响．．．．．．．．．．32 万方数据 PECVD制备掺杂纳晶硅薄膜的性能研究 PECVD制备掺杂纳晶硅薄膜的性能研究 ‘V· 4．4．4硅薄膜不同制备温度下腐蚀的形貌比较．．．．．．．．．33 4．4．5腐蚀液浓度对硅薄膜腐蚀速率的影响．．．．．．．．．．34 第五章总结与展望 37 参考文献 39 致谢 45 湖南师范大学学位论文原创性声明 47 湖南师范大学学位论文版权使用授权书 47 万方数据 PECⅦ制备掺杂纳晶硅薄膜的性能研究第一章 PECⅦ制备掺杂纳晶硅薄膜的性能研究 第一章 前言 §1．1 硅薄膜和硅薄膜材料的发展 材料是现代科学的基础．材料分类中的一个重要分支是薄膜材料， 在航空、医疗、能源、信息和交通方面都已被广泛而成熟的利用．以薄 膜材料中的硅薄膜材料为例，硅薄膜材料的发展，现已在国内外都得到 了广泛的应用，不断有新的发现出现，科学家在硅薄膜方面做的科研贡 献也越来越多，这对硅薄膜的有效利用，有很大的帮助，推动着社