半导体气体特性及系统介绍.pdf

半導體氣體特性及系統介紹 1. Bulk Gas Supply System 2. Specialty Gas Supply System PDF 文件使用 pdfFactory Pro 试用版本创建 蔞凫 一. 大宗氣體供應系統- Bulk Gas Supply System 1. 什麼是大宗氣體: 一般指用量較大的氣體,無色無味無臭,但仍有潛在 的危險(部分具窒息性). * CDA(UCCA) / IA – 壓縮乾燥空氣/ 儀器推動空氣/ 呼吸用空氣 * HPCDA (HCDA) 高 縮乾燥空氣 * GN2 - 一般氮氣 * PN2 - 純化氮氣 * PHE - 純化氦氣 * PAR - 純化氬氣 * PO2 - 純化氧氣 * PH2 - 純化氫氣 PDF 文件使用 pdfFactory Pro 试用版本创建 蔞凫 2. 主要用途介紹: * CDA – 作為Fab 中氣動設備(如Pump )的氣源及吹淨( Purge ) 作為Local Scrubber 助燃的氣源 * IA – 作為廠務系統氣動設備的氣源及吹淨( Purge ) * HPCDA 黃光區Scanner 機台專用( 移動平台/ 使Filter 緊靠) * GN2 / PN2 - 作為部分氣動設備氣源及提供惰性的氣體環境 Pn2 主要的功能為吹淨( Purge ) * PO2 - 提供製程中氧化的作用 * PAR 作為製程中濺渡的傳導介質 * PHE - 作為製程中冷卻晶片的氣源 * PH2 -提供燃燒,烘烤的作用及其他反應 PDF 文件使用 pdfFactory Pro 试用版本创建 蔞凫 3. 製程與氣體的分佈 : 以SMIC FAB2 為 Gas Name Diffusion Photo Etch Thinfilm Implant CDA V V V V V HPCDA V GN2 V V V V V PN2 V V V V V PO2 V V V V PAR V V V PHE V V V PH2 V V PDF 文件使用 pdfFactory Pro 试用版本创建 Bulk Gas System