辉光放电质谱分析中质谱干扰及其校正方法的现状.pdfVIP

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2019-02-04 发布于天津
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辉光放电质谱分析中质谱干扰及其校正方法的现状.pdf

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辉光放电质谱分析中质谱干扰及其校正方法的现状

辉光放电质谱分析中质谱干扰及其校正方法的现状余兴，李小佳，王海舟　（钢铁研究总院国家钢铁材料测试中心，北京）１０００８１摘要：详细地介绍了辉光放电质谱分析中的质谱干扰如同量异位素、多原子离子和多电荷离　子干扰。从同位素选择、高分辨率仪器、碰撞诱导解离、离子源冷却、数学方法校正、放电气体更换和放电气体纯度提高等方面对辉光放电质谱的质谱干扰校正方法的现状进行了评述（引用文献共６８篇）。关键词：辉光放电质谱；质谱干扰；干扰校正方法；综述中图分类号：文献标志码：文章编号：（）Ｏ６５７．６３Ａ１００１４０２０２０１００２０２０６０５　　　　　　犕犪狊狊犛犲犮狋狉犪犾犐狀狋犲狉犳犲狉犲狀犮犲狊犻狀犌犾狅狑犇犻狊犮犺犪狉犲犕犪狊狊犛犲犮狋狉狅犿犲狋狉狆犵狆狔犪狀犱犘狉犲狊犲狀狋犛狋犪狋狌狊狅犳犕犲狋犺狅犱狊犳狅狉犜犺犲犻狉犆狅狉狉犲犮狋犻狅狀狊，，犢犝犡犻狀犔犐犡犻犪狅犻犪犠犃犖犌犎犪犻狕犺狅狌犵犼（，，，）犛狋犪狋犲犃狀犪犾狋犻犮犪犾犆犲狀狋犲狉狅狉犐狉狅狀犪狀犱犛狋犲犲犾犆犲狀狋狉犪犾犐狉狅狀犪狀犱犛狋犲犲犾犚犲狊犲犪狉犮犺犐狀狊狋犻狋狌狋犲犅犲犻犻狀１０００８１犆犺犻狀犪狔犳犼犵：，犃犫狊狋狉犪犮狋Ｍａｓｓｓｅｃｔｒａｌｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅｓｉｎｌｏｗｄｉｓｃｈａｒｅｍａｓｓｓｅｃｔｒｏｍｅｔｒｉｎｃｌｕｄｉｎｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅｓｏｆｐｇｇｐｙｇ，，ｉｓｏｂａｒｓｍｕｌｔｉａｔｏｍｉｏｎｓａｎｄｍｕｌｔｉｃｈａｒｅｉｏｎｓｗｅｒｅｉｎｔｒｏｄｕｃｅｄｉｎｄｅｔａｉｌ．Ａｎｄｔｈｅｒｅｓｅｎｔｓｔａｔｕｓｏｆｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎｏｆｇｐ，；ｍａｓｓｓｅｃｔｒａｌｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅｓｗａｓｒｅｖｉｅｗｅｄｒｅｌａｔｉｎｔｏ７ｃｕｒｒｅｎｔｗａｓｉ．ｅ．ｓｅｌｅｃｔｉｎｔｈｅｏｎｏｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｔｉａｌｉｓｏｔｏｅｓｐｇｙ ① ｇｐ；ｕｓｉｎｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓｗｉｔｈｈｉｈｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｉｎｔｒｏｄｕｃｉｎａｃｏｌｌｉｓｉｏｎｒｅａｃｔｉｏｎｃｅｌｌｂｅｔｗｅｅｎｔｈｅｉｏｎｓｏｕｒｃｅａｎｄｍａｓｓ