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采购需求：（可添加附页） 一、系统的主要组成及技术指标 极限真空度：≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后)； 系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S； 系统从大气开始抽气，40分钟可达到6.6x10-4 Pa； 停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa； 系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成； 、溅射真空室组件 1套 圆筒型真空室尺寸Ф450mm x350mm，电动上掀盖结构，可内烘烤100～150℃，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封； 真空室组件上焊有各种规格的法兰接口如下： 、RF100法兰接口：1个（观察窗口）； 、RF63法兰接口：1个（观察窗口）； 、RF10法兰接口：3个（2路进气管路、放气阀）； 、CF150法兰接口：1个（接分子泵）； 、CF100法兰接口：3个（磁控溅射靶接口） 、CF35法兰接口：6个(接电离规管、旁抽口、陶封引线2个、备用2个)； 、CF25法兰接口：1个（基片挡板）； 、CF16法兰接口：1个（备用）； 、ZC16法兰接口：1个(接ZC16热偶规管)； 、磁控溅射靶组件 3套 、靶材尺寸：Φ60mm（其中一个可以溅射磁性材料）； 、永磁靶：射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷； 、电动控制挡板组件：1套； 、靶配有屏蔽罩，以避免靶材之间的交叉污染(非共溅时安装使用)； 、三个靶可共同折向上面的样品中心，靶与样品距离90～110mm可调；当直接向上溅射时，靶与样品距离40～80mm可调，并有调位距离指示。 、单基片水冷加热台组件 1套 、基片尺寸：可放置30mm基片； 、基片加热最高温度 600°C±1° 、取下加热炉可以换上水冷基片台； 、基片可连续回转，转速5～10转/分； 、基片可以加负偏压-200V； 、手动控制样品挡板组件：1套； 、样品托：2个； 、窗口及法兰接口部件 1套 4.1、RF100玻璃窗口：1块；RF63玻璃窗口：1块； 4.2、CF35陶瓷封接引线法兰：2个（照明及内烘烤引线）； 4.3、盲法兰CF16：1个；CF35：2个； 、工作气路 1套 、200SCCM、100SCCM质量流量控制器（北京）、DG16角阀、进气截止阀、混气室、管路、接头等：共2路 、DG16角阀、管路、接头等：1路（解除真空冲氮气）； 、抽气机组及阀门、管道 1套 、复合分子泵及变频控制电源：1台（抽速600升/秒，北京）； 、直联机械泵：1台（抽速8升/秒，上海）； 、KF40电磁隔断放气阀：1台（上海）； 、分子泵与机械泵软联接金属软管：1套 ； 、机械泵与真空室之间的旁抽管路、电磁截止阀及角阀门：1套 ； 、CF150-B闸板阀：1台（用于分子泵与真空室隔离）； 、安装机台架组件 1套 优质方钢型材（50mmX50mmX4mm）焊接成，快卸围板表面喷塑处理；机台表面用不锈钢蒙皮装饰；四只脚轮，可固定，可移动； 、真空测量及电控系统 1套 、电源机柜：1台； 、总控制电源：1台（为分子泵、机械泵、电磁阀、升降电机、真空计等提供电源，有断电保护功能）； 、水流报警系统：1套（对分子泵、磁控靶有断水报警切断相应电源功能）； 、样品加热控温电源：1套（日本产控温表，可实现程序控温）； 、步进电机旋转电源：1套； 、靶挡板电源：3套； 、加热烘烤及照明电源：1套； 、宽量程数显真空计（成都）：1套； 热偶规：1路（1.0x105Pa～1.0x10-1Pa）； 电离规：1路（1.0x10-1Pa～1.0x10-5Pa）； 、200SCCM、100SCCM质量流量显示器：1套； 、分子泵控制电源：1套； 、500W射频电源：1套；（沈阳） 、500W直流电源：2套； 、