利用x射线小角散射技术研究微晶硅薄膜的微结构-物理学报.PDFVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 ;% ; ; ; ， ， ， 4DA :;% TD :; U@V ; （ ） !0$’P;P;% ; P!=0% ,3Q, 16R+S3, +STS3, ; 3C9K : 1CVI : +D8 : 利用 射线小角散射技术研究微晶硅薄膜的微结构! ! ）） ） ） ） ） ） ） ） ） ! # ! ! ! ! ! $ % % 周炳卿 刘丰珍 朱美芳 谷锦华 周玉琴 刘金龙 董宝中 李国华 丁 琨 !）（中国科学院研究生院物理系，北京 !$’ ） ）（内蒙古师范大学物理系，呼和浩特 ! ） $ ）（中国科学院高能物理研究所北京同步辐射实验室，北京 !$’ ） % ）（中国科学院半导体研究所，北京 !($ ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） % ( ! % ’ !) 采用 射线小角散射（ ）技术研究了由射频等离子体增强化学气相沉积（ ）、热丝化学气相沉积 * +,-+ ./012345 （ ）和等离子体助热丝化学气相沉积（ ）技术制备的微晶硅（ ：）薄膜的微结构 实验发现，在 67345 80+9 6 : ! 相同晶态比的情况下， 沉积的 ： 薄膜微空洞体积比小，结构较致密， 沉积的 ： 薄膜微空 12345 80+9 6 67345 0+9 6 ! ! 洞体积比大，结构较为疏松， 沉积的 ： 薄膜，由于等离子体的敲打作用，与 样品相比，微结 80+9 6 67345 ! 构得到明显改善 采用 二步法和 加适量 离子分别沉积 ： 薄膜，实验表明，微结构参数 : 67345 ,. 80+9 6 ! 得到了进一步改善 倾角的 测量显示，不同方法制备的 ： 薄膜中微空洞分布都呈各向异性 红外光 :%;