纯水体系SiO2纳米多孔材料的低成本制备与表征.pdf

第30 卷 第 10 期 无 机 材 料 学 报 Vol. 30 No. 10 2015 年10 月 Journal of Inorganic Materials Oct., 2015 文章编号: 1000-324X(2015)10-1081-04 DOI: 10.15541/ji 纯水体系 SiO 纳米多孔材料的低成本制备与表征 2 赵晶晶, 沈 军, 邹丽萍, 王文琴, 祖国庆, 张志华 ( 同济大学 波耳固体物理研究所, 上海市人工微结构材料与技术重点实验室, 上海 200092) 摘 要: 以低成本工业级硅溶胶为硅源, 水为溶剂, 在常压条件下干燥后制备出纳米多孔 SiO2 块体材料。在制备 过程中, 采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)来降低水的表面张力, 减少样品在干燥过程中开裂和收 缩, 避免了繁琐的溶剂替换过程。所制备的 SiO 3 2 2 块体密度为 150~260 mg/cm , 比表面积为91~140 m /g, 平均孔 径为 15~27 nm, 其室温热导率可达0.048 W/(m·K) 。该方法大大缩减了制备SiO2 纳米多孔材料的成本, 并降低了 操作工艺难度和危险, 将在很大程度上推动硅纳米孔材料的工业化生产与应用。 关 键 词: SiO2 纳米多孔材料; 硅溶胶; 常压干燥; 表面活性剂 中图分类号: O648 文献标识码: A A Low-cost Preparation of SiO Aerogel Monoliths from Silica Sol 2 ZHAO Jing-Jing, SHEN Jun, ZOU Li-Ping, WANG Wen-Qin, ZU Guo-Qing, ZHANG Zhi-Hua (Pohl Institute of Solid State Physics, Tongji University, Shanghai 200092, China) Abstract: Porous monolithic SiO2 materials were prepared via ambient pressure drying process with low cost silica sol as precursor and water as solvent. Cetyl trimethyl ammonium bromide (CTAB) was used as the surface modifier to get rid of the cumbersome process of solvent substitution which was necessary in the traditional am- bient drying process. The densities, specific surface area and the aver