选通式象增强器的新型导电基底.pdf

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2019-03-02 发布于天津
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29 9 . 29 .9 Vol No 2000 9 ACTA PHOTONICA SINICASeptember 2000 * 李　佳　庞其昌　彭文达　李宏云　阎国安　高春建 ( , 710068) * ( , 710024) 本文介绍了采用光刻技术制备的一新型的导电基底, 它的面电阻≤10,透过率约为89 . 在该基底上研制出的选通式象增强器,可实现选通时间在级以上的高速选 ns 通,适用于微光、瞬时多通道高速光谱分析系统和高速摄影系统. 导电基底;光刻;选通; 象增强器 0 , , , . 1 , . . . ,, , () ,, , . , , . . , , ,, , , VeM . , , MCP . . ,, , 6 2 (10 ) , , . 1 ,() ,, ,, , , , . , 收稿日期: 2000—01—20 29 862 2 . , (), . ( ) 2 Fig.2Measurements design of metal mesh D ,L , ,d ,N ( ).