铝合金表面特性与微弧氧化膜层生长过程的相关性.pdf

第 41 卷第 5 期 中南大学学报( 自然科学版) Vol.41 No.5 2010 年 10 月 Journal of Central South University (Science and Technology) Oct. 2010 铝合金表面特性与微弧氧化膜层生长过程的相关性 杨巍，蒋百灵，时惠英，鲜林云 (西安理工大学 材料科学与工程学院，陕西 西安，710048) 摘 要：利用扫描电镜(SEM)、X 线光电子能谱仪(XPS)和 IM6e 电化学工作站等分析手段，探讨沉积层阻抗与微 弧氧化膜层生长过程的相关性。研究结果表明：溶质离子参与沉积层的形成，并使其物质组成、微观结构以及阻 抗产生较大差异，进而影响起弧时间和起弧电压；起弧后陶瓷层生长将依赖于基体铝向氧化铝的转变而使样品表 面阻抗增大，有微量溶质离子被动参与成膜；铝合金表面预制备膜在起始阶段即增加样品的绝缘性，其种类和阻 抗对微弧氧化起弧和生长过程影