ALD技术及其应用.pdfVIP

原子层沉积 （ALD ） 技术及应用 仕嘉科技（北京）有限公司 陈宇林 2009年7月24 日 1 www.StartS Start Science Ltd. Confidential 前言 单原子层沉积 （atomic layer deposition，ALD ），起初称为原子层外延 (Atomic Layer Epitaxy)；最初是由芬兰科学家提出并用于多晶荧光材料 ZnS:Mn 以及非晶Al O 绝缘膜的研制，这些材料是用于平板显示器 。 2 3 由于这一工艺涉及复杂的表面化学过程和低的沉积速度，直至上世纪 80年代中后期