基于DMD高分辨率激光直写系统设计与实现-光学工程专业论文.docxVIP

基于 基于 DMD 高分辨感激光盛事司系统设计均实现 中文摘要 中文摘要 目前，包括我国在内的多个国家成功研制了不同结构的激光直写系统，应用于如 集成电路制造、微光学元件加工、 MEMS 、光学检测、光学防伪等多个行业中，因此， 撤光赢写系统的研制工作备受关注. Holomaker-III-B 新型激光11写系统在光学及机械 结构上已基本成形，本课题从实际应用出发，旨在对系统的性能作详细分析，在光路 的硬件装配、数据处理方案、控制软件及应用工艺上对该系统进行全面的优化设计利 性能提升. 通过对激光直写系统 Holomaker-III-B光路的改装，将 OMD代替原来的方形光阑做 为输入空间光调制梯，把数字反射镜 (Digital Micro-mirror Device. DMD) 上的朋 像干涉成像在光刻胶板上，得到…个缩小倍率的、高质量的任意干涉光斑图形。此系 统分辨率能够达到 60000凹，能够制作出高质量的光变图像，例如 2D阁像、 20/30图像、 3D阁像以及各种精密的微刻图像和文字，并给出了实验结果。 相对于传统的逐点光刻的形式. Holomaker.幽lII-B系统是以逐面光刻成功制作了 2D 图像、 2D/3D图像、 3日l到像、各种精密的微刻图像和文字以及工元光学元件.逐面光 刻除了速度上比逐点光刻快很多，而且在制作的质景和难度上都有着很大的进步。 本课题通过对系统硬件软件设计及应用的深入研究，得出了 Holomaker-III-B 系统 一套高性价比的、实用化的实验研究设备，用其制作的部分元件已得到工业化应用。 关键词z 激光直写:空间光调制楼;二元光学;数字光变图像 作 者g 陆亚聪 指导教师 g 陈林森 基于 基于 DMD 高分拂感激光1 在写系统设计均实现 英文摘要 Abstract Oiffi臼ent photoli也ographic sys饱ms have b创n developed in manyωuntries and are 句司pli创 in IC fabrication， micrl萨。，ptical elements manufacture ，MEMS，optical inspection， optiωI 阳urity and etc.ηlerefore，more attention晴 are paid on Iithography sy阳ms. HOLOMAKER- II1心 is a new phoωHthographic system and posse剑es good optical and mechanic咀lωnfi肌Ilation. From 加 point víew of application， we analyze the sy阳ms P创fom阳ces in d创ail and make the op伽tal approaches in direct writingωntrolso食ware， hardware and photolitho阴phic technologiesωimprovethe 阴rformances of 也ìs sys比m. Through re负伽，g the laser d让ect wri仿19(LOW) system Holomak仲II1-B，us问 digiω1 micr胁mirror device(DMD)ωreplace the original 叫uare bore as a spatial light modulator(SLM)， the sy就em can expose a reduction interferential pattem with any fi肌m directly on phoωIresist plate. The resolution of final di筋百ction pattem can be achieved up ω6000dpi and a series ofhigh quality di册action pat邸m嚣，创lCh as 20，20/30，30 images andvarioωnìcety of tiny figurωor let阳骂， can be easi1y created in 伽is system. The experimental results have been given in 也is pa严也 Opposi惚 in traditioual method offabricating dot by OOt ，the Holomaker-II1-B sy.就m fabrica能 20 p创阳盹 20/30 pat阳us，