脉冲激光沉积硫化锗–硫化稼–硫化镉非晶薄膜的结构和-硅酸盐学报.PDF

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脉冲激光沉积硫化锗–硫化稼–硫化镉非晶薄膜的结构和-硅酸盐学报

第36 卷第12 期 张 星 等:铁掺杂对锰酸镧锶体系磁电性质的影响 · 1725 · 第36 卷第12 期 硅 酸 盐 学 报 Vol. 36 ,No. 12 2008 年 12 月 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY December ,2008 脉冲激光沉积硫化锗–硫化稼–硫化镉非晶薄膜的结构和性能 1,3 1 1,3 1 1 顾少轩 ,马志军 ,潘瑞琨 ,陶海征 ,赵修建 (1. 武汉理工大学,硅酸盐材料工程教育部重点实验室;2. 材料科学与工程学院,武汉 430070 ; 3. 湖北大学材料科学与工程学院,武汉 430062) 摘 要:用脉冲激光沉积(pulsed laser deposition,PLD)法在玻璃基片上沉积了组分为80GeS –15Ga S –5CdS 的硫系非晶薄膜,利用X 射线衍射、分光 2 2 3 光度计、扫描电镜、场发射扫描电镜、Raman 光谱等研究了薄膜的性能和结构。对薄膜进行紫外脉冲激光极化,采用 Maker 条纹法测试薄膜的二阶 非线性光学效应(second harmonic generation,SHG)。结果表明:获得的硫系GeS –Ga S –CdS 非晶薄膜表面光滑平整、厚度约为800 nm 、透过率高达 2 2 3 78%,与靶材相比,薄膜中的缺陷较多。在紫外脉冲激光极化的薄膜中观察到了明显的SHG,强度约为参考石英单晶的两倍。 关键词:硫化锗–硫化稼–硫化镉非晶薄膜;二阶非线性光学效应;脉冲激光沉积法;紫外脉冲激光极化 中图分类号:TQ171.1,O437 文献标志码:A 文章编号:0454–5648(2008)12–1725–05 STRUCTURE AND PROPERTIES OF GeS –Ga S –CdS AMORPHOUS FILMS PREPARED 2 2 3 BY THE PULSED LASER DEPOSITION GU Shaoxuan1,2 1 1,3 1 1 ,MA Zhijun ,PAN Ruikun ,TAO Haizheng ,ZHAO Xiujian (1. Key Laboratory of Silicate Materials Science and Engineering; 2. School of Materials Science and Enginee

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