晶片化学机械抛光中的质量问题的研究及解决-集成电路工程专业论文.docx

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万方数据 万方数据 CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEFECT RESEARCH AND SOLUTION A Master Thesis Submitted to University of Electronic Science and Technology of China Major: Master of Engineering Author: Kong Jianjun Advisor: Zhang Qingzhong School of Microelectronics and Solid-State School : Electronics 独 创 性 声 明 本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作 及取得的研究成果。据我所知,除了文中特别加以标注和致谢的地方 外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果,也不包含为 获得电子科技大学或其它教育机构的学位或证书而使用过的材料。与 我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的 说明并表示谢意。 作者签名: 日期: 年 月 日 论 文 使 用 授 权 本学位论文作者完全了解电子科技大学有关保留、使用学位论文 的规定,有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘, 允许论文被查阅和借阅。本人授权电子科技大学可以将学位论文的全 部

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